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化学工学会 第41回秋季大会

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S) シンポジウム

S-14. 塗布技術と表面加工

オーガナイザー 三輪 靖(三菱化学)・山村 方人(九州工業大学)

塗布技術を中心に、塗料化、液膜形成、乾燥、表面加工、構造形成、モデリング等の技術について、大学での研究に加え企業での具体的検討例を多く交えて議論する。

最終更新日時:2009-09-07 16:39:01

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CFD2件
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番号
講演題目/発表者キーワード受理日時
59乾燥炉内レベリングプロセスのHybrid Mesh FEMによるDNS
(大日本印刷) ○(正)津田 武明(U. Minnesota) Scriven L. E.
Leveling Process
Numerical analysis
DNS
4/21
19:18:50
68マランゴニ対流存在下における乾燥誘起相分離
(九工大工) ○(学)栄開 慎太郎(正)山村 方人(正)馬渡 佳秀(正)鹿毛 浩之
phase separation
flow
coating
4/22
15:00:21
69熱流束・重量同時計測による2溶媒系フィルムの乾燥速度評価
(九工大工) ○(学)松永 真一(正)山村 方人(正)馬渡 佳秀(正)鹿毛 浩之
gap dryer
drying
coating
4/22
15:02:14
70V溝ゴムロールを用いた2ロールナチュラルコータの塗布特性
(住金総研) ○飯田 真一郎
roll coater
groove roll
coating weight
4/22
15:40:34
79塗布プロセスにおける粒子挙動の解析
(大日本印刷) ○(正)吉羽 洋
Particles
Coating
Stokesian dynamics
4/23
09:40:51
183リバースロール塗布における液垂れの解析
(三菱化学) ○山内 康嗣鳥越 実
reverse roll
instability
CFD
4/27
12:00:55
201ポリエステル/メラミン塗料を用いたプレコート鋼板の塗膜内メラミン粒の生成に与える乾燥硬化条件の影響
(新日鐵) ○(部)植田 浩平
Pre-paint
Melamine
Curing
4/27
14:07:05
376塗布開始時におけるビード挙動の流動解析
(三菱製紙) ○安原 賢
coating
start-up
CFD
4/28
15:54:16
384スラリー塗布膜乾燥挙動に対する溶解高分子の影響
(神戸大院工) ○(学)木村 律子(正)菰田 悦之(正)鈴木 洋
drying process
hydrophilic polymer
surface morphology
4/28
16:04:14
385スリットコートにおけるメニスカスの可視化技術とその検証
(タツモ) ○五十川 良則川口 敬史山本 稔
coating
visualizing
meniscus
4/28
16:06:59
432[招待講演]Dynamics, Stability, and Sensitivity of Film Coating Processes
(Korea U.) ○Jung Hyun Wook
coating flow
stability
sensitivity
4/28
18:33:24
436[招待講演]高分子マイクロ・ナノ成形とその構造形成
(山形大工) ○(共)伊藤 浩志
Micro/Nano-molding
Molecular orientation
Replication property
4/28
18:37:25
438[招待講演] フレキシブル色素増感太陽電池と製造プロセス
(桐蔭横大) ○宮坂 力
solar cell
4/28
18:42:54
534グラビア塗布における転写流れに与える操作条件の影響
(富士機械工業) ○三浦 秀宣(九工大工) 島田 祐貴平原 裕樹(正)馬渡 佳秀(正)鹿毛 浩之(正)山村 方人
gravure coating
Transfer flow
Visualization
4/30
09:21:13
548有機半導体薄膜の構造と電気特性の塗布プロセス依存性
(東大院工) ○(学)奥 圭介(正)稲澤 晋(正)辻 佳子(正)山口 由岐夫
organic semiconductor
thin film
coating process
4/30
10:17:19
611シリカ懸濁フィルムにおける星状クラックの形成限界
(九工大工) ○(学)窪田 貴一(正)山村 方人(正)馬渡 佳秀(正)鹿毛 浩之
crack
film
drying
4/30
12:31:28
618塗布膜乾燥における多溶媒成分変化のリアルタイム同時計測法の開発
(富士フイルム) ○(正)斉木 裕樹(正)沖 和宏
drying
film
coating
4/30
12:53:07
628ライン状パターン表面における2成分溶媒滴を用いた薄膜形成
(九大院工) ○(学)安松 祥平(学)宮本 晋安(九大工) (正)中曽 浩一(阪府大工) (正)金田 昌之(九大工) (正)深井 潤
Mixture solvent
Patterned surface
Thin film formation
4/30
13:11:03
630流れ場における高濃度コロイド分散液のshear-thickeningメカニズム
(東大院工) ○(学)音羽 拓也(正)稲澤 晋(正)藤田 昌大(正)山口 由岐夫
rheology
shear thickening
colloid
4/30
13:12:48
775ポリマー分散型液晶における相分離構造の制御
(東大院工) ○(学)太田 誠一(正)稲澤 晋(正)山口 由岐夫
phase separation
polymer
liquid crystal
4/30
17:09:17
849せん断場での非凝集系微粒子分散液のshear-thinningシミュレーション
(東大院工) ○(正)安藤 努小池 修(正)藤田 昌大(正)山口 由岐夫
stabilized suspension
shear-thinning
numerical simulation
4/30
18:49:04

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