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化学工学会 第41回秋季大会

講演プログラム（会場・日程別）

A会場 第2日

最終更新日時：2009-09-07 16:36:42
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
(9:40～11:00)　(座長 杉山 正和)
9:40～ 10:00A203熱CVD法で作製したSr-Ti酸化物薄膜の組成
(東海大院工) ○(学)羽柴 和人・今 大輔・(学)佐藤 晃・奥村 優夢・関根 徹明・(正)秋山 泰伸		CVD
EDX
Strontium Titanate
S-45510
10:00～ 10:20A204モノメチルシランガスによる多結晶SiC薄膜低温成長
(横国大院工) ○(正)羽深 等・大森 弘士		SiC
Monomethylsilane
CVD
S-4533
10:20～ 10:40A205RF非平衡プラズマ場を用いた高分散ナノ粒子合成プロセス
(広大院工) ○(学)小坂 知徳・(正)島田 学		Non-agglomerated particle
Nonequilibrium plasma
Unipolar charge
S-45953
10:40～ 11:00A206単層カーボンナノチューブの垂直配向成長におけるAl2O3下地の効果
(東大院工) ○(学)杉目 恒志・(正)野田 優		single-walled carbon nantoube
Co catalyst
Al2O3 underlayer
S-45629
(11:00～12:00)　(座長 瀬戸 章文)
11:00～ 11:20A207COを炭素源とするプラズマCVDによる炭素系高機能材料合成
(東工大院理工) ○(正)森 伸介・(正)上野 高典・(正)鈴木 正昭		Plasma enhanced CVD
Carbon nanowall
Carbon nanofiber
S-45712
11:20～ 11:40A208超臨界二酸化炭素中における金属酸化物薄膜の作製
(阪府大院工) ○(学)廣田 祐一郎・(阪府大工) 小島 章光・(阪府大院工) (正)岡本 尚樹・(正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫・(東北大多元研) (正)高見 誠一		supercritical carbon dioxide
deposition
metal oxide thin film
S-45706
11:40～ 12:00A209In-situ赤外分光分析を用いた円管型CVD反応器内の2次元濃度分布の測定
(京大工) ○(正)河瀬 元明・(学)伊藤 敬文・(正)三浦 孝一		Pyrocarbon
CVD
Infrared absorption
S-4562
(13:00～13:40)　(司会 河瀬 元明)
13:00～ 13:40A213[展望講演] 気相反応による粒子生成とモデリング
(広大工) ○(正)奥山 喜久夫		CVD
Particle formation
Modeling
S-4560
(13:40～15:00)　(座長 秋山 泰伸)
13:40～ 14:00A215単分散エアロゾル触媒を用いたCNTの気相合成
(金沢大院) ○(学)古川 拓磨・(産総研) (正)平澤 誠一・(金沢大理工) (正)瀬戸 章文・(正)大谷 吉生		Carbon nanotube
Laser ablation
Chemical vapor deposition
S-45418
14:00～ 14:20A216添加剤フリーでの単層カーボンナノチューブ・サブミリメータ成長
(東大院工) ○(学)長谷川 馨・(正)野田 優		single-walled carbon nanotubes
rapid growth
growth mechanism
S-45710
14:20～ 14:40A217ナノサイズクラスターの堆積による表面形態の形成過程
(広大院工) ○(学)村上 詩織・(学)飯田 大樹・(正)島田 学		Cluster
Nanostructure
Thin Film
S-45917
14:40～ 15:00A218微細孔埋め込みプロセスとしてのCVDと超臨界薄膜形成法の比較
(東大工) ○(正)百瀬 健・(正)杉山 正和・(正)霜垣 幸浩		Supercritical fluid
Chemical vapor deposition
Step coverage
S-45737
講演プログラム
化学工学会 第41回秋季大会
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Most recent update: 2009-09-07 16:36:42
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