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化学工学会 第41回秋季大会

S-45. [MI/CR] CVD・ドライプロセスシンポジウム −デバイス構造・機能制御の反応工学−

オーガナイザー 齊藤 丈靖(大阪府立大学)・河瀬 元明(京都大学)

CVD,スパッタリングなどのドライプロセスによる薄膜・微粒子形成を中心に,ナノ・ミクロレベルでの構造制御・機能制御に関する話題を集め,集中的に議論する場とします。光・電子デバイス,MEMS,マイクロリアクタなどの形成において,必要な薄膜の構造や機能を経験的にではなく,論理的に最適化するための方法論を議論します。


シンポジウム番号・講演分類番号一覧
化学工学会 第41回秋季大会

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Most recent update: 2009-04-27 18:27:40
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E-mail: inquiry-41fwww3.scej.org
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