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化学工学会 第42回秋季大会

S-29. [CR/MI] CVD・ドライプロセス−構造・機能制御の反応工学−

オーガナイザー 霜垣幸浩(東京大),秋山泰伸(東海大)

CVDやスパッタ,ドライエッチングなどの薄膜形成・微粒子合成,微細加工における反応メカニズムの理解を通じ,デバイス構造を形成し,機能を発現させる方法論について議論することを目的とします。光・電子デバイス,MEMS,マイクロリアクタなどの形成において,必要な薄膜の構造や機能を経験的にではなく,論理的に最適化するための方法論を議論します。単一会場でのシンポジウムとすることで参加者全員による活発な討議を期待します。


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化学工学会 第42回秋季大会

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Most recent update: 2010-08-23 10:41:42
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E-mail: inquiry-42fwww3.scej.org
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