化学工学会第45回秋季大会: 講演プログラム（会場・日程別）

講演プログラム（会場・日程別）

XB 会場・第 2 日

最終更新日時：2013-08-20 14:03:53

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
シンポジウム <気泡・液滴・微粒子分散工学2013>
(9:00～10:00) (座長水田敬)
9:00～ 9:20	XB201	アルカリ溶解会合性高分子溶液中を上昇運動する気泡への初期流動条件の影響 (徳島大院先端教育部) ○(学)徳井紀彦・ (徳島大院STS) (正)太田光浩・ (名工大院工) (正)岩田修一	Bubble rise motion HASE solution Viscoelastic fluid	S-20	163
9:20～ 9:40	XB202	ハイドレート生成条件下におけるメタン気泡の挙動 (産総研) (正)佐藤康晴・ ○(正)清野文雄・ (正)山本佳孝・ (東海大) (共)清水賀之	Methane Hydrate Energy resources	S-20	677
9:40～ 10:00	XB203	分散相平均速度と分散粒子平均速度との関係式 (工学院大) ○(正)上山惟一	multiphase flow interaction term mean velocity	S-20	71
(10:00～11:00) (座長本間俊司)
10:00～ 10:20	XB204	Implementation of Immersed Boundary into Interface Capturing Scheme (Sumitomo Chemical Co. Ltd.) ○(共)Dhar Abhinav・ (正)Shimada Naoki・ (Kobe U.) (共)Tomiyama Akio	Immersed Boundary Interface Captureing Multiphase Flow	S-20	501
10:20～ 10:40	XB205	擬2次元系における変形振動気泡により誘起される系内流れのCFD解析 (同志社大院理工) ○(学)澤田拓也・ (学)石崎純・ (同志社大理工) (正)森康維・ (正)土屋活美	a single bubble confinement CFD	S-20	992
10:40～ 11:00	XB206	剪断流中における高粘性液滴の変形挙動の数値解析 (徳島大院先端教育部) ○(学)村木謙介・ (徳島大院STS) (正)太田光浩	Drop deformation Shear flow Numerical analysis	S-20	161
(11:00～12:00) (座長藤岡沙都子)
11:00～ 11:20	XB207	二重ノズルから生成する複合液滴のシミュレーション (埼玉大院) ○(学)金兌宣・ (正)本間俊司・ (正)古閑二郎	Compound droplet Numerical simulation Front-Tracking	S-20	576
11:20～ 11:40	XB208	化学メーカーが取り組む流体解析基盤技術の展開(その2:流動層および液面付撹拌槽の検証) (三菱化学) (正)石羽恭・ (宇部興産) (正)末益猛・ (クラレ) (正)川中俊一・ (出光興産) ○(正)坂倉圭・ (ライオン) (正)郷司咲子・ (三井化学) (正)梶川真一郎・ (住友化学) (正)島田直樹	Computational Fluid Dynamics Fluidized Bed Stired Tank Reactor	S-20	13
11:40～ 12:00	XB209	[優秀論文賞] Shear-thickening 流体中を上昇する気泡運動の数値解析 (徳島大院STS研) ○(正)太田光浩・ (室蘭工大工) 木村幸香・ (室蘭工大院工) 古川智浩・吉田豊・ (フロリダ州大) Sussman M.	Shear-thickening fluid Bubble rise motion Numerical simulation	S-20	5
(13:00～14:00) (座長島田直樹)
13:00～ 13:20	XB213	CFD計算を用いた細孔膜法によるエマルジョン生成条件の検証 (東北大院工) ○(正)小野巧・ (正)大田昌樹・ (正)佐藤善之・ (正)猪股宏・ (住友大阪セメント) 野添勉・木下暢	CFD membrane emulsification	S-20	905
13:20～ 13:40	XB214	ナノシリカ分散系に及ぼすイオンとpHの効果 (千葉大院工) ○(正)廣瀬裕二・ (正)大坪泰文	suspension nanosilica dilatant flow	S-20	295
13:40～ 14:00	XB215	界面活性剤無添加O/Wエマルションの分散状態と生成直後からの静置時間の関係 (岡山大院自) ○(学)藤本直秀・ (正)吉田幹生・ (正)押谷潤・ (サンスター) 岡徹	surfactant-free O/W emulsion Standing time dependence	S-20	347

講演
時刻

講演
番号

講演題目／発表者

キーワード

分類
番号

受理
番号

シンポジウム <気泡・液滴・微粒子分散工学2013>

(9:00～10:00) (座長水田敬)

9:00～ 9:20

XB201

アルカリ溶解会合性高分子溶液中を上昇運動する気泡への初期流動条件の影響

(徳島大院先端教育部) ○(学)徳井紀彦・ (徳島大院STS) (正)太田光浩・ (名工大院工) (正)岩田修一

Bubble rise motion
HASE solution
Viscoelastic fluid

S-20

163

9:20～ 9:40

XB202

ハイドレート生成条件下におけるメタン気泡の挙動

(産総研) (正)佐藤康晴・ ○(正)清野文雄・ (正)山本佳孝・ (東海大) (共)清水賀之

Methane
Hydrate
Energy resources

S-20

677

9:40～ 10:00

XB203

分散相平均速度と分散粒子平均速度との関係式

(工学院大) ○(正)上山惟一

multiphase flow
interaction term
mean velocity

S-20

(10:00～11:00) (座長本間俊司)

10:00～ 10:20

XB204

Implementation of Immersed Boundary into Interface Capturing Scheme

(Sumitomo Chemical Co. Ltd.) ○(共)Dhar Abhinav・ (正)Shimada Naoki・ (Kobe U.) (共)Tomiyama Akio

Immersed Boundary
Interface Captureing
Multiphase Flow

S-20

501

10:20～ 10:40

XB205

擬2次元系における変形振動気泡により誘起される系内流れのCFD解析

(同志社大院理工) ○(学)澤田拓也・ (学)石崎純・ (同志社大理工) (正)森康維・ (正)土屋活美

a single bubble
confinement
CFD

S-20

992

10:40～ 11:00

XB206

剪断流中における高粘性液滴の変形挙動の数値解析

(徳島大院先端教育部) ○(学)村木謙介・ (徳島大院STS) (正)太田光浩

Drop deformation
Shear flow
Numerical analysis

S-20

161

(11:00～12:00) (座長藤岡沙都子)

11:00～ 11:20

XB207

二重ノズルから生成する複合液滴のシミュレーション

(埼玉大院) ○(学)金兌宣・ (正)本間俊司・ (正)古閑二郎

Compound droplet
Numerical simulation
Front-Tracking

S-20

576

11:20～ 11:40

XB208

化学メーカーが取り組む流体解析基盤技術の展開(その2:流動層および液面付撹拌槽の検証)

(三菱化学) (正)石羽恭・ (宇部興産) (正)末益猛・ (クラレ) (正)川中俊一・ (出光興産) ○(正)坂倉圭・ (ライオン) (正)郷司咲子・ (三井化学) (正)梶川真一郎・ (住友化学) (正)島田直樹

Computational Fluid Dynamics
Fluidized Bed
Stired Tank Reactor

S-20

11:40～ 12:00

XB209

[優秀論文賞] Shear-thickening 流体中を上昇する気泡運動の数値解析

(徳島大院STS研) ○(正)太田光浩・ (室蘭工大工) 木村幸香・ (室蘭工大院工) 古川智浩・吉田豊・ (フロリダ州大) Sussman M.

Shear-thickening fluid
Bubble rise motion
Numerical simulation

S-20

(13:00～14:00) (座長島田直樹)

13:00～ 13:20

XB213

CFD計算を用いた細孔膜法によるエマルジョン生成条件の検証

(東北大院工) ○(正)小野巧・ (正)大田昌樹・ (正)佐藤善之・ (正)猪股宏・ (住友大阪セメント) 野添勉・木下暢

CFD
membrane emulsification

S-20

905

13:20～ 13:40

XB214

ナノシリカ分散系に及ぼすイオンとpHの効果

(千葉大院工) ○(正)廣瀬裕二・ (正)大坪泰文

suspension
nanosilica
dilatant flow

S-20

295

13:40～ 14:00

XB215

界面活性剤無添加O/Wエマルションの分散状態と生成直後からの静置時間の関係

(岡山大院自) ○(学)藤本直秀・ (正)吉田幹生・ (正)押谷潤・ (サンスター) 岡徹

surfactant-free
O/W emulsion
Standing time dependence

S-20

347

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