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化学工学会 第45回秋季大会

S-2. [CR & MI & SF] CVD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学−

オーガナイザー 下山裕介(東工大),島田学(広島大),筑根敦弘(大陽日酸)

太陽電池や集積回路,MEMS,ガスセンサー,触媒等の分野において,大面積かつ低コストでの薄膜・微粒子形成技術が求められています。本シンポジウムでは,CVDを利用した薄膜形成,微粒子合成における構造・機能制御,ならびにドライプロセスによるエッチング加工,装置クリーニング等について,経験的なトライアル&エラーによる最適化条件の探索ではなく,反応メカニズムの理解による論理的な最適化を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。


シンポジウム番号・講演分類番号一覧
化学工学会 第45回秋季大会

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Most recent update: 2013-08-06 19:15:13
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