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化学工学会 第47回秋季大会

講演プログラム（セッション別）

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部会シンポジウム SY-13. <塗布技術と表面加工（材料・界面部会）>

このシンポジウムの講演時間は 発表１２分＋討論８分 です。

Q213-Q220, Q304-Q318

最終更新日時：2015-08-26 10:00:42
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
Q 会場・第 2 日
(13:00〜14:00) (座長 辰巳 怜・安井 豊)
13:00〜 13:40Q213[招待講演] 液相中における表面修飾無機ナノ粒子の分散・凝集挙動の数値シミュレーション
(東北大院工) (正)塚田 隆夫
surface modified nanoparticles
dispersion
numerical simulation
SY-1371
13:40〜 14:00Q215濃厚粒子分散液塗布膜の表面構造形成に対する凝集特性の影響
(神戸大院工) ○岡田 啓生・ (正)菰田 悦之・ (正)鈴木 洋・ (神戸大自) (正)日出間 るり
drying process
particle aggregation
concentrated suspension
SY-13951
(14:00〜15:00) (座長 日出間 るり・八尋 隆)
14:00〜 14:20Q216O/Wエマルションの乾燥過程における変形・合一現象の解析
(資生堂) (法)○長谷川 克行・ (正)那須 昭夫・ (農工大) (正)稲澤 晋
emulsion
coalescence
dry
SY-13498
14:20〜 14:40Q217天然由来可塑剤を含むポリマー溶液塗膜の乾燥モデル
(神戸大院工) (学)○瀧 紘・ 中野 剛志・ (正)今駒 博信・ (正)堀江 孝史
drying model
polymer solution coating
plasticizer
SY-13309
14:40〜 15:00Q218低粒子濃度スラリー塗膜表面の乾燥による粒子偏析と光学特性
(神戸大院工) (学)○瀧 紘・ (正)今駒 博信・ (正)堀江 孝史
slurry coating
drying
particle segregation
SY-13313
(15:00〜15:40) (座長 久保 正樹・中野 公一)
15:00〜 15:20Q219高粒子濃度スラリー塗膜の乾燥モデル
(神戸大院工) (学)○祖開 美奈子・ 山根 大志・ (正)今駒 博信・ (正)堀江 孝史
Slurry coating
Maxwell-Stefan equation
Drying model
SY-13421
15:20〜 15:40Q220高粒子濃度スラリー塗膜表面の乾燥によるポリマー層の形成
(神戸大院工) (学)○祖開 美奈子・ (正)今駒 博信・ (正)堀江 孝史
Slurry coating drying
Maxwell-Stefan equation
Polymer layer formation
SY-13425
Q 会場・第 3 日
(10:00〜11:00) (座長 井上 元・久保 耕司)
10:00〜 10:40Q304[招待講演] 塗布プロセスによる有機/無機半導体薄膜の構造と物性
(東大環安セ) (正)辻 佳子
organic semiconductor
oxide semiconductor
nano-structure
SY-13532
10:40〜 11:00Q306低分子・高分子ハイブリッド有機半導体薄膜の構造・物性制御
(東大院工) (学)○今 宏徳・ (正)黒澤 千鶴・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子
OLEDs
film formation dynamics
optical properties
SY-13504
(11:00〜12:00) (座長 菰田 悦之・三輪 靖)
11:00〜 11:20Q307吸着性溶質を含む微粒子分散液の乾燥・濃縮過程の直接数値計算
(東大環安セ) (正)○辰巳 怜・ (PIA) (正)小池 修・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子・ (PIA) (正)山口 由岐夫
direct numerical simulation
colloidal suspension
drying process
SY-13640
11:20〜 11:40Q308直接数値計算による二峰性ナノ粒子分散液の流動メカニズムの検討
(PIA) (正)○小池 修・ (東大環安セ) (正)辰巳 怜・ (PIA) (正)山口 由岐夫
rheology
bimodal dispersion
direct numerical simulation
SY-13665
11:40〜 12:00Q309プリンテッドエレクトロニクスにおけるフレキソ印刷不良発生メカニズムの解析
(凸版印刷) (正)○和田 晋一・ 多田 誠・ 篠原 雄一郎・ 飯野 良一
flexo printing
drying process
numerical analysis
SY-13424

(13:00〜14:00) (座長 辻 佳子・安原 賢)
13:00〜 13:20Q313粒子分散液の乾燥過程に於ける粒子充填挙動の解析
(農工大院工) (正)○稲澤 晋・ 忍見 祐・ (正)神谷 秀博
Drying
colloidal film
packing
SY-13562
13:20〜 13:40Q314グラビアロール上液面プロファイルの測定
(九工大) (正)○三浦 秀宣・ (正)山村 方人・ (富士機械工業) 鶴岡 あゆみ
Riverse kiss gravure coating
Doctoring process
Blade thickness
SY-13285
13:40〜 14:00Q315ナノスケール膜厚の水系同時重層塗布の実験的検証
(コニカミノルタ) (法)○坂田 和彦・ (法)工藤 智広・ (法)宮崎 敬・ (法)千葉 隆人
simultaneous multi-layer coating
stability of multi-layer film flow
nanometer scale film
SY-13177
(14:00〜15:00) (座長 稲澤 晋・渡辺 睦子)
14:00〜 14:20Q316スリット噴流による液膜表面流および蒸発の挙動解析
(芝浦工大) (学)○島野 太貴・ 北風 聡・ 坂本 佳祐・ (芝浦工大) (正)山田 崇・ (正)小野 直樹
Drying
Film
PVA
SY-13258
14:20〜 14:40Q317ガラス表面に付着する鱗状痕の生成挙動
(岐阜大) (学)○山田 勇介・ (イシグロ) (共)小森 宇生也・ (岐阜大) (正)神原 信志
Water spot
Silicone
Laser raman
SY-13484
14:40〜 15:00Q318表面調整剤による塗布膜の細線化
(九大院工) (学)○入濱 勇気・ (学)山下 麟太郎・ 中川 彰馬・ (九大工) 坂上 恵・ (正)深井 潤
coating
solid thin film
wettability
SY-13542
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Most recent update: 2015-08-26 10:00:42
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