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化学工学会 第49回秋季大会

ST-26. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス ―デバイス構造・機能制御の反応工学―

オーガナイザー: 下山 裕介(東京工業大学)・西田 哲(岐阜大学)・池田 圭((株)アテナシス)

太陽電池,エレクトロニクス,MEMS,機能性コーティング等の分野において,大面積かつ低コストでの薄膜・微粒子形成技術が求められています。本シンポジウムでは,CVD・ドライプロセスを利用した薄膜形成・微粒子合成・微細加工における構造・機能制御について,経験的なトライアル&エラーではなく,反応メカニズムの理解による論理的な最適化を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します.


シンポジウム番号・講演分類番号一覧
化学工学会 第49回秋季大会

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Most recent update: 2017-05-30 22:05:09
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