河瀬 元明(京都大学)・玉置 直樹(キオクシア(株))・齊藤 丈靖(大阪府立大学)・三宅 雅人(奈良先端科学技術大学院大学) |
CVD等のドライプロセスはエレクトロニクス,太陽電池,MEMS,機能性コーティング等の分野において重要な基幹技術となっている。本シンポジウムでは,CVDとALDその他のドライプロセスを利用した薄膜形成,微粒子合成,微細加工において反応工学的見地より反応メカニズムを理解し,論理的で効率的な反応プロセスや反応装置の開発を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します.37才未満の正会員の希望者を対象とし,優秀な発表に対して粒子・流体プロセス部会シンポジウム賞の「奨励賞」を贈呈します.
最終更新日時:2022-01-31 16:50:01
![]() ているキーワード | キーワード | 受理件数 | |
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CVD | 5件 | ![]() | |
CVI | 2件 | ![]() | |
Numerical simulation | 2件 | ![]() | |
Chemical Vapor Deposition | 2件 | ![]() | |
thermal annealing | 1件 | ![]() |
受理 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 発表形式 |
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40 | 三塩化ホウ素ガスとモノメチルシランガスによる薄膜形成 | Chemical vapor deposition Silicon-Boron film Mechanism | O |
142 | 超臨界流体薄膜堆積法で作製した酸化チタンの光触媒活性と結晶性への添加物の効果 | supercritical fluid deposition photocatalyst crystallinity | O |
154 | One-step fabrication of CuO-loaded TiO2 nanoparticulate thin film for photocatalytic application under visible light irradiation | PECVD-PVD nanocomposite heterojunction | O |
375 | ビスマスを原料とした太陽電池用ペロブスカイト薄膜CVDプロセスの開発 | CVD perovskite methylammonium bismuth iodide | O |
514 | [展望講演] 反応性プラズマを用いたナノ粒子の成長制御とその応用展開 | CVD nano-particles growth control | O |
516 | [招待講演] 長尺・高密カーボンナノチューブ(CNT)・アレイから作製するCNT乾式紡績糸の物性制御とエネルギー・メカニカルデバイスへの応用 | Carbon nanotube (CNT) arrays Dry Spinning CNT yarns Energy and mechanical devices | O |
517 | [展望講演] 半導体メモリの技術・経済・産業の現在と発展する未来 | CVD semiconductor memory industry | O |
519 | [招待講演] プラズマ照射下の空間ミクロかつ時間マクロな構造変化の再現計算への挑戦 | CVD plasma numerical simulation | O |
562 | CVI法を用いたセラミックス基複合材料製造反応器内の数値シミュレーション | CVI Numerical simulation MTS | O |
594 | パルス供給ALDにおける原料気化特性の検討 | ALD precursor vaporization | O |
629 | 超臨界CO2を反応場とした有機修飾酸化鉄ナノ結晶の直接合成 | Supercritical carbon dioxide iron oxide nanocrystals organic modification | O |
672 | Enhanced CO2-assisted growth of single-wall carbon nanotube arrays with Fe/AlOx catalyst annealed without CO2 | chemical vaper deposition thermal annealing single-wall carbon nanotubes | O |
689 | SiCf/SiC CMC合成のための排出ガス改質再利用を含むSiC含浸プロセスの提案 | SiC reuse CVI | O |
785 | 理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築 | TiAlN CVD Elementary reaction model | O |
792 | 多結晶SiC-CVDプロセス設計を目指した総括反応モデルの構築と検証 | Chemical Vapor Deposition silicon carbide macrocavity method | O |
863 | Ti[N(CH3)2]4を用いたプラズマCVD法によるTiCN膜の作製 | plasma CVD TDMAT TiCN | O |
864 | 次世代半導体用配線材料としての MAX化合物の製膜と評価 | Max Phase semiconductor | O |