SCEJSCEJ 化学工学会第52回秋季大会 2021.9.22(水) - 9.24(金) 岡山大学 津島キャンパス English page
Last Update: 2021-05-04 19:03:02

ST-22. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学−

オーガナイザー: 河瀬 元明(京都大学)玉置 直樹(キオクシア(株))齊藤 丈靖(大阪府立大学)三宅 雅人(奈良先端科学技術大学院大学)

CVD等のドライプロセスはエレクトロニクス,太陽電池,MEMS,機能性コーティング等の分野において重要な基幹技術となっている。本シンポジウムでは,CVDとALDその他のドライプロセスを利用した薄膜形成,微粒子合成,微細加工において反応工学的見地より反応メカニズムを理解し,論理的で効率的な反応プロセスや反応装置の開発を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します.37才未満の正会員の希望者を対象とし,優秀な発表に対して粒子・流体プロセス部会シンポジウム賞の「奨励賞」を贈呈します.


シンポジウム番号・講演分類番号一覧

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