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化学工学会 第53回秋季大会 (長野)

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ST) 部会横断型シンポジウム

ST-24. [部会横断型シンポジウム] CVD/ALD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学− ＜ライブ配信併用＞

オーガナイザー: 野田　優（早稲田大学）・下山 裕介（東京工業大学）・川上 雅人（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株)）・百瀬　渉（ALDジャパン(株)）

CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。なお、優秀な発表をされた若手研究者には、CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。

最終更新日時：2023-05-14 05:35:01

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番号		講演題目／発表者キーワード発表形式
9ミニマルシリコンCVDにおける三塩化ホウ素によるホウ素ドーピング
(横国大院理工) 加持 裕生・ (正)○羽深 等・ (ミニマルファブ/産総研) 池田 伸一・ 石田 夕起・ 原 史朗		Minimal Fab
Silicon CVD
Boron Doping
O
119[展望講演] フラックスコーティング法が拓く結晶材料フロンティア
(信州大RISM/信州大工) ○手嶋 勝弥・ (信州大RISM) 山田 哲也・ (信州大工) 林 文隆・ (東理大理工/信州大RISM) 寺島 千晶		Flux method
Crystalline layer
Environmental and energy devices
O
198[招待講演] レーザーを援用した化学気相析出による非酸化物セラミックスの構造と機能
(産総研) ○且井 宏和・ 堀田 幹則・ (名大) 原田 勝可・ (NIMS) 下田 一哉		chemical vapor deposition
laser
microstructure
O
221[展望講演] 機械学習によるW-ALD成膜速度の予測精度向上と応用展開
(東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ) ○会田 倫崇・ 山﨑 英亮・ 堀田 隼史・ 川口 拓哉・ 成嶋 健索・ 久保 敦史・ 望月 誠一郎・ 高木 俊夫		Machine Learning
ALD
Simulation
O
237真空紫外光による機能性保護膜コーティング法
(岐阜大院自) (学)○横井 秋乃・ (正)早川 幸男・ (岐阜大院工) (正)神原 信志		Vacuum ultraviolet light
Polymer coating
Surface modification
O
239触媒原料急熱による単層カーボンナノチューブの気相連続CVD合成
(早大先進理工) (学)○近嵐 樹・ (正)大沢 利男・ (正)野田 優		carbon nanotube
chemical vapor deposition
nanoparticle catalyst
O
407アルキルアルミニウムを原料としたAlN薄膜合成法の検討
(京大工) (学)○村橋 孝亮・ 李 亜飛・ (正)影山 美帆・ (正)河瀬 元明		chemical vapor deposition
AlN
trimethylaluminium
O
437浮遊PECVDコーティングプロセスによるZnO-TiO2-CNTの作製
(広大院先進) (学)○川原 淳人・ (正)久保 優・ (正)島田 学		photocatalytic activity
composite material
aerosol process
O
450SiC-CVI法における高濃度水素供給を利用した高速含浸条件の検討
(東大院工) (学)○木村 俊介・ (学)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) 出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩		SiC
CVI
CVD
O
497超臨界CO2を利用した表面修飾Fe3O4ナノ粒子の洗浄
(東工大物質理工) (正)○織田 耕彦・ 池田 開・ (学)Wijakmatee Thossaporn・ (正)下山 裕介		carbon dioxide
magnetite nanoparticles
supercritical washing
O
528超臨界CO2を媒体とした磁性ナノ粒子合成における温度と圧力の影響
(東工大物質理工) (学)○苅谷 啓杜・ (正)織田 耕彦・ (正)下山 裕介		supercritical CO2
magnetic nanoparticle
temperature and pressure
O
599密度汎関数法によるCu (111)表面におけるCuアセチルアセトナートの解離吸着に関する研究
(U. Tokyo) (学)○Wu Yuxuan・ (正)Sato Noboru・ (学)Yamaguchi Jun・ Deura Momoko・ (正)Momose Takeshi・ (正)Shimogaki Yukihiro		Atomic Layer Depositon
Density Function Theory
Surface Adsorption
O
617CCTBAを用いたCo-ALDプロセスの検討
(東大院工) (学)○山口 潤・ (正)佐藤 登・ 出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩		ALD
cobalt
CCTBA
O
686COSMO-SAC法による金属錯体の蒸気圧予測の検討
(東大院工) (正)○佐藤 登・ (学)山口 潤・ (学)呉 宇軒・ 出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩		vapor pressure
metal complex
COSMO-SAC
O
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Most recent update: 2023-05-14 05:35:01
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