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化学工学会 第75年会

講演プログラム（セッション別）

エレクトロニクス

G205-G209

最終更新日時：2010-03-08 22:20:14
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
G会場 第2日
(10:20〜11:20)　(座長 冨田 大輔)
10:20〜 10:40G205硫酸・硫酸銅水溶液中における銅イオンの電極反応と拡散
(京大) ○(正)荻野 文丸
copper plating
electrode reaction of copper
diffusion of ion
11-a227
10:40〜 11:00G206半導体シリコンウエハ洗浄槽における気泡の動き
(横国大院工) 福本 怜平 ・ ○(正)羽深 等 ・ 岡田 勇太 ・ (プレテック) 加藤 正行
Wet-Cleaning
Bubble
Silicon wafer
11-a252
11:00〜 11:20G207光誘起重合相分離によるフレキシブル低誘電率膜形成過程における溶液粘度の影響
(京大工) ○(正)瀧 健太郎 ・ (正)熊谷 拓也 ・ (正)長嶺 信輔 ・ (正)大嶋 正裕
low-k
photopolymerization
UV
11-a218
(11:20〜12:00)　(座長 瀧 健太郎)
11:20〜 11:40G208GaNの高温・高圧ハロゲン化アンモニウム溶液中への溶解度と結晶成長
(東北大多元研) ○(正)冨田 大輔 ・ (学)栗林 岳人 ・ (学)石鍋 隆幸 ・ 鏡谷 勇二 ・ 石黒 徹 ・ (正)横山 千昭
gallium nitride
crystal growth
solubility
11-i484
11:40〜 12:00G209アモノサーマル法による窒化ガリウム単結晶育成
(東北大多元研) ○(正)横山 千昭 ・ (学)石鍋 隆幸 ・ (学)栗林 岳人 ・ 澤山 拓洋 ・ 鏡谷 勇二 ・ (正)冨田 大輔 ・ 石黒 徹
crystal growth
gallium nitride
supercritical ammonia
11-i418
講演プログラム
化学工学会 第75年会
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Most recent update: 2010-03-08 22:20:14
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