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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

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K) 国際シンポジウム

K-2. CVDの反応工学：iCVDなどの新プロセス、応用展開と基礎的理解＜公募なし＞

オーガナイザー: 町田　英明（気相成長(株)）・百瀬　健（東京大学）・野田　優（早稲田大学）

アジア国際賞を受賞された韓国KAISTのSung Gap Im先生をお招きし、iCVD (initiated chemical vapor deposition)法による高分子極薄膜の低温・均一製膜と、エレクトロニクス・生体医療などへの新展開をご講演頂きます。また、CVDプロセスの反応工学的解析と、その理解に基づいた合理的なプロセスの設計と開発、更には先端材料・デバイスへの展開を議論します。

最終更新日時：2017-05-20 20:59:01

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ているキーワード		キーワード受理件数
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番号		講演題目／発表者キーワード発表形式
14[依頼講演] リアクタ内輸送現象解析を基にしたシリコンエピタキシャル成長反応設計
(横国大院工) (正)○羽深 等・ 渡部 亨・ 山田 彩未・ 齋藤 あゆ美・ 桜井 あゆみ		silicon epitaxial growth rate
trichlorosilane
silicon hydride
O
17[依頼講演] 非爆発性ホウ素化合物でホウ化した金属ワイヤからのホウ素原子放出
(静大工) (共)梅本 宏信		chemical vapor deposition
hot wire
boron atoms
O
19[依頼講演] カーボンナノチューブ合成の反応工学:触媒探索、活性種同定、合目的反応器設計
(早大先進理工) (正)野田 優		carbon nanotubes
chemical vapor deposition
rational design and development
O
26[アジア国際賞] 機能性高分子膜の気相製膜と応用
(KAIST) Im Sung Gap		initiated chemical vapor deposition
functional polymer films
electronic, separation, and biomedical applications
O
82[招待講演] Cat-CVD法とその広い分野への展開
(北陸先端大) (共)松村 英樹		Thin Film Technology
Cat-CVD
Cat-doping
O
85[招待講演] Cat-CVD技術の結晶シリコン太陽電池応用
(北陸先端大) (共)○大平 圭介・ Trinh Cham Thi・ 及川 貴史・ 瀨戸 純一・ 小山 晃一・ (共)松村 英樹		catalytic chemical vapor deposition
crystalline Si solar cell
passivation
O
112[依頼講演] 触媒利用CVD法によるZnO薄膜成長におけるN2Oの添加効果
(長岡技科大) 田島 諒一・ 渡邊 航大・ 小野 翔太郎・ 加藤 孝弘・ (共)○安井 寛治		chemical vapor deposition
catalytic reactions
ZnO films
O
157[依頼講演] 遷移金属成膜のためのCVD、ALD原料候補
(気相成長) (共)町田 英明		Transition metal film
Amidinate precursor
Ethyl derivatives
O
184[依頼講演] 超臨界中製膜―溶媒能による製膜制御
(山梨大工) (正)近藤 英一		supercritical fluids
solvent capability
thin film deposition
O
198[依頼講演] 湿式化学析出法により創生した構造体触媒の新しい触媒特性
(静大院総合) (正)福原 長寿		Electroless plating
Structured catalyst
Hydrogen production
O
217[依頼講演] 容量結合型RF放電を用いたプラズマALDによるTiO2膜の形成
(東京エレクトロン山梨) 岩下 伸也		TiO2
PEALD
deposition
O
219[依頼講演] 熱フィラメントCVD法によるパワーデバイス用低抵抗ダイヤモンドの合成
(産総研) 大曲 新矢		hot-filament CVD
diamond
low-resistivity
O
324[依頼講演] GaN有機金属気相成長における反応メカニズムと製膜速度分布
(東大工) (正)○杉山 正和・ (正)百瀬 健・ (ミラノ工大) Ravasio Stefano・ Cavallotti Carlo・ (東大工) (正)霜垣 幸浩		GaN
MOVPE
reaction mechanism
O
396[依頼講演] プラズマCVDを用いたエアロゾルプロセスによるカーボンナノチューブの表面被覆
(広大院工) (正)○島田 学・ (正)久保 優・ (広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K.		PECVD
carbon nanotube
dry coating process
O
477[依頼講演] マイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素の合成
(岐阜大) ○田中 一平・ (千葉工大) 坂本 幸弘		plasma
CVD
carbon nitride
O
740[依頼講演] HMDSO，酸素，アンモニアのプラズマ分解による高分子基板上へのシリカ系薄膜のコーティング
(京大工) (正)河瀬 元明		Plasma CVD
silica-based gas-barrier film
HMDSO
O
838[招待講演] CVD/ALDプロセスの反応工学的解析と設計
(東大院工) (正)霜垣 幸浩		Chemical Reaction Engineering
CVD
Process Design
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Most recent update: 2017-05-20 20:59:01
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