Last Update: 2020-09-26 15:59:01

受理済み講演申し込み (11-c) [English]


11) エレクトロニクス

11-c. 微細加工技術(エッチング、薄膜形成、等)

最終更新日時:2020-09-26 15:59:01

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534RFプラズマCVDによる窒素、チタンおよびその他金属を含む多元金属化合物膜の作製と評価
(阪府大工) ○(学)松島 広朗(阪府大院工) 冨士 和樹(正)齋藤 丈靖(正)岡本 尚樹
RF plasma CVD
Ti-based film
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