SCEJ

化学工学会 第86年会

講演申し込み一覧（シンポジウム・講演分類別）

11) エレクトロニクス

11-c. 微細加工技術（エッチング、薄膜形成、等）

最終更新日時：2021-08-21 18:44:01

この分類でよく使われ
ているキーワード		キーワード受理件数
Wafer etching1件
SiC1件
CLF3 gas1件

受理
番号		講演題目／発表者キーワード発表形式
434H-SiC ウエハエッチングにおける三フッ化塩素ガス分散構造の設計と検証
(横国大) 林 優也・ (正)○羽深 等・ (関東電化) (法)高橋 至直・ (産総研) 加藤 智久		SiC
Wafer etching
CLF3 gas
O
講演申し込み一覧(シンポジウム番号・講演分類番号別)
受理済み講演申込一覧
化学工学会 第86年会
(C) 2021 公益社団法人化学工学会 . All rights reserved.
Most recent update: 2021-08-21 18:44:01
For more information contact 化学工学会 第86年会 実行委員会
E-mail: inquiry-86awww3.scej.org
This page was generated by easp 2.46; update.pl 2.37 (C)1999-2015 kawase