受理済み講演申込 | 化学工学会第86年会

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Last Update: 2023-04-01 06:36:04

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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2021-08-21 18:44:01

この分類でよく使われているキーワード	キーワード	受理件数
	CVD	4件
	chemical vapor deposition	3件
	CVI	2件
	carbon nanotube	2件
	SiC	2件
	nonlinear reaction kinetics	1件

受理番号	講演題目／発表者	キーワード	発表形式
24	HMDSOを主原料としたプラズマCVDによる製膜中の発光分析 (岐阜大院自) ○(学)久保庭惇・ (岐阜大工) 小宮山正治・ (正)西田哲	CVD film plasma	P
27	FeとAl源の気相供給による14cm長カーボンナノチューブフォレストの成長 (早大理工総研) ○(正)杉目恒志・ (早大先進理工) 佐藤俊裕・仲川黎・ (静大工) 林竜弘・ (正)井上翼・ (早大先進理工) (正)野田優	carbon nanotube chemical vapor deposition catalyst	O
42	三塩化ホウ素ガスとジクロロシランガスによる S-B 膜形成 (横国大) 大谷真奈・室井光子・ ○(正)羽深等	Silicon-boron CVD BCL3	O
254	原料交互供給型超音波霧化法を用いたCuInS₂成膜における反応制御 (東大院工) ○(学)居城晃平・ (東大環安セ/東大院工) (正)坂井延寿・ (正)辻佳子	CuInS2 ultrasonic spray method solar cells	P
383	MTS/H₂を原料としたSiC-CVIにおける擬0次反応と犠牲層を併用したトレンチ内均一製膜 (東大院工) ○(学)大高雄平・ (正)佐藤登・ (学)根東佳史・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC CVD CVI	O
424	火炎噴霧熱分解により調製したコア-シェル型Ni-SiO₂触媒のSiO₂シェル生成機構 (山形大院理工) (正)藤原翔	Flame spray pyrolysis Ni catalyst SiO2 shell	O
506	塩素フリーSiC-CVIにおける粉体抑制・均一埋め込みに向けたプロセス検討 (東大院工) ○(学)根東佳史・ (学)安治遼祐・ (学)大高雄平・ (正)佐藤登・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC CVI CVD	P
518	Multiscale simulation framework for chemical vapor deposition in nonlinear surface reaction kinetics case (東大院工) ○(学)Zhang Jin・ (正)Deura Momoko・ (正)Momose Takeshi・ (正)Shimogaki Yukihiro	multiscale simulation chemical vapor deposition nonlinear reaction kinetics	O
530	クロロホルムを用いたグラフェンの絶縁基板上直接合成 (早大先進理工) ○(学)中村汐里・ (学)田中秀明・ (早大理工総研) (正)杉目恒志・ (早大先進理工) (正)野田優	graphene etching precipitation method chloroform	P
538	理論的検討に基づいたSiC-CVIプロセスにおける炭素種の表面反応モデル構築 (東大院工) ○(正)佐藤登・ (学)根東佳史・ (学)大高雄平・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC CVI surface reaction mechanism CH3SiCl3	O
565	触媒原料急熱による高結晶性単層カーボンナノチューブの気相連続合成 (早大先進理工) ○(学)近嵐樹・張子豪・ (正)大沢利男・ (早大理工総研) (正)杉目恒志・ (早大先進理工) (正)野田優	carbon nanotube chemical vapor deposition nanoparticle catalyst	P

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