SCEJSCEJ 化学工学会第87年会 2022.3.16(水) - 3.18(金) 神戸大学 鶴甲第1キャンパス / オンライン English page
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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時:2022-06-14 16:59:01

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110密度汎関数法による銅(II)アセチルアセトナートの銅(111)表面への吸着に関する研究
(U. Tokyo) ○(学)Wu Yuxuan(正)Sato Noboru(学)Yamaguchi Jun(正)Deura Momoko(正)Momose Takeshi(正)Shimogaki Yukihiro
Atomic Layer Depositon
Density Function Theory
Surface Adsorption
O
116銅融液触媒を用いた化学気相成長法による高結晶性グラフェンの合成
(早大先進理工) ○(学)岡 順也(学)中村 汐里(正)大沢 利男(早大理工総研) (正)李 墨宸(早大先進理工) (正)野田 優
graphene
chemical vapor deposition
molten Cu catalyst
P
303プラズマCVDによるSiOx系薄膜の製膜とその評価
(岐阜大院自) ○(学)馬場 時生(岐阜大工) 小宮山 正治(正)西田 哲
CVD
Plasma
coating
P
394固体ホウ素と水蒸気の反応による酸化ホウ素蒸気供給と窒化ホウ素ナノチューブの合成
(早大先進理工) ○(学)甲斐田 敬済髙橋 宏夢(早大理工総研) (正)李 墨宸(近畿大理工) (正)杉目 恒志(早大先進理工) (正)大沢 利男(正)野田 優
boron nitride nanotube (BNNT)
chemical vapor deposition (CVD)
boron oxide vapor
P
439超臨界CO2を利用した表面修飾酸化鉄ナノ粒子の合成法の開発
(東工大物質理工) ○(学)苅谷 啓杜(正)織田 耕彦(正)下山 裕介
iron oxide
organic surfactant
supercritical carbon dioxide
P
492Preparation of Ag-embedded TiO2 film by reducing metal ions via plasma-enhanced chemical vapor deposition
(Hiroshima U.) ○(学)Lang J.(技基)Takahashi K.(正)Kubo M.(正)Shimada M.
nanoparticles
photocatalytic activity
morphology
O
511MTS/H2を原料としたSiC-CVIにおけるSiCl4添加による微細構造内製膜均一化の原因考察
(東大院工) ○(学)大高 雄平(東大工) 木村 俊介(東大院工) (正)佐藤 登(IHI) (正)福島 康之(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
CMC
O
578理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスの表面反応モデル構築
(東大院工) ○(正)佐藤 登(京セラ) (法)古藤 雅大(法)久保 隼人(法)杉山 貴悟(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(京セラ) (法)谷渕 栄仁(東大院工) (正)霜垣 幸浩
TiAlN
CVD
Surface reaction kinetics
O
585Co-ALDプロセスにおける原料の比較検討
(東大院工) ○(学)山口 潤(正)佐藤 登(正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
ALD
cobalt
precursor
O
649溶融ビスマスを用いたヨウ化メチルアンモニウムビスマスペロブスカイトのCVD
(京大工) ○(正)河瀬 元明(学)戸上 敬登楊 紫光
CVD
perovskite
methylammonium bismuth iodide
O

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