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化学工学会横浜大会2012

講演申し込み一覧（シンポジウム・講演分類別）

5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2012-06-11 20:59:01

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ているキーワード		キーワード受理件数
SiC2件
Low temperature1件

受理
番号		講演題目／発表者キーワード受理日時
4炭化珪素薄膜の低温形成法
(横国大院工) ○津地 雅希・ (正)羽深 等		SiC
CVD
Low temperature
5/20
21:31:30
5三フッ化塩素ガスにより4H-SiC表面に形成されるエッチピット
(横国大院工) ○(学)福元 裕介・ (正)羽深 等・ (産総研) 加藤 智久		SiC
Etching pit
ClF3 gas
5/20
21:37:33
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