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化学工学会横浜大会

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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2019-08-18 04:39:02

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purification1件
Silicon Surface1件
carbon nanotubes1件
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epitaxial1件
CVD1件
Adsorption and Desorption1件
silicon1件

受理
番号		講演題目／発表者キーワード発表形式
6ミニマルCVD装置におけるジクロロシランを用いたシリコンエピタキシャル製膜
(横国大院理工) (学)○高橋 俊範・ (正)羽深 等・ (産総研) 池田 伸一・ 石田 夕起・ 原 史朗		silicon
epitaxial
CVD
O
13シリコン表面上における二成分系有機物の吸着・脱離過程の温度依存性
(横国大院理工) (学)○堀 健太・ 金井 友彦・ (正)羽深 等		Adsorption and Desorption
Temperature Influence
Silicon Surface
O
85FeCl3蒸気を用いたカーボンナノチューブの低損傷乾式精製
(早大先進理工) (学)○田中 秀明・ 大橋 慧・ (正)大沢 利男・ (正)杉目 恒志・ (正)野田 優		carbon nanotubes
purification
catalyst metals
O
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