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化学工学会横浜大会

講演プログラム（セッション別）

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【学生賞講演】反応工学

C101-C108

最終更新日時：2019-07-25 18:46:34
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
C 会場・第 1 日
(10:00〜12:00) (座長 羽深 等・原 孝佳)
10:00〜 10:15C101ミニマルCVD装置におけるジクロロシランを用いたシリコンエピタキシャル製膜
(横国大院理工) (学)○高橋 俊範・ (正)羽深 等・ (産総研) 池田 伸一・ 石田 夕起・ 原 史朗
silicon
epitaxial
CVD
5-h6
10:15〜 10:30C102FeCl3蒸気を用いたカーボンナノチューブの低損傷乾式精製
(早大先進理工) (学)○田中 秀明・ 大橋 慧・ (正)大沢 利男・ (正)杉目 恒志・ (正)野田 優
carbon nanotubes
purification
catalyst metals
5-h85
10:30〜 10:45C103水により層間隔が拡張する層状イットリウム水酸化物触媒の開発および固体塩基としての応用
(千葉大院工) (学)○中西 輝・ (正)原 孝佳・ 一國 伸之・ 島津 省吾
Anion exchange
Intercalation
Layered yittrium hydroxide
5-a42
10:45〜 11:00C104難分解性有機物の分解効率向上への超音波技術の応用とその効果
(東理大院) (学)○中西 彩也香・ (東理大) (正)納谷 昌和・ (正)松川 博亮・ (正)大竹 勝人・ (東京電大工) (正)小林 大祐・ (東理大) (正)庄野 厚
Ultrasound
methylene blue
bath type irradiation
5-b63
11:00〜 11:15C105シリコン表面上における二成分系有機物の吸着・脱離過程の温度依存性
(横国大院理工) (学)○堀 健太・ 金井 友彦・ (正)羽深 等
Adsorption and Desorption
Temperature Influence
Silicon Surface
5-h13
11:15〜 11:30C106膜通気型マイクロ流路を用いたアゾ染料のオゾン処理-拡散距離と染料供給速度の影響-
(新潟大自) (学)○下谷 勇樹・ (新潟大) (正)小松 博幸・ (正)多島 秀男・ (正)山際 和明
Microchannel
Ozonation
Gas absorption
5-f35
11:30〜 11:45C107活性炭への表面処理が塩基触媒活性に及ぼす影響
(群大院理工) (学)○栗田 拓海・ (正)神成 尚克・ (正)佐藤 和好
Activated carbon
Solid base- catalyzed
Surface treatments
5-a56
11:45〜 12:00C108Mn-Co oxides coated Cu nanowires on Cu foam for catalytic combustion of toluene
(弘前大理工) (学)○王 ジン・ (学)王 佩芬・ (弘前大地域研) (正)吉田 曉弘・ (弘前大理工) (正)阿布 里提・ (弘前大地域研) (正)官 国清
catalytic combustion of toluene
Mn-Co oxides catalysts
VOC removal
5-a48
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