SCEJ

第13回化学工学会学生発表会(秋田大会)【東日本地区】

講演申し込み一覧(シンポジウム・講演分類別)


5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時:2011-02-10 11:18:01

この分類でよく使われ
ているキーワード
キーワード受理件数
epitaxial growth1件
single crystal silicon film1件
CVD1件
rapid vapor deposition1件
interlayer1件
graphene1件

受理
番号
講演題目/発表者キーワード受理日時
79急速蒸着・エピタキシャルリフトオフ法による太陽電池用単結晶シリコン薄膜の作成
(東大工) ○(学)廣田 幸祐(半一) 石橋 健一(東大院工) (正)辻 佳子(正)野田 優
single crystal silicon film
epitaxial growth
rapid vapor deposition
12/3
16:55:24
80金属薄膜触媒を用いた化学気相成長法によるグラフェンの合成
(東大工) ○(学)増田 竜也(東大院工) (正)野田 優
CVD
graphene
interlayer
12/3
16:55:32

講演申し込み一覧(シンポジウム番号・講演分類番号別)

受理済み講演申込一覧
第13回化学工学会学生発表会(秋田大会)【東日本地区】

(C) 2011 (社)化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
Most recent update: 2011-02-10 11:18:01
For more information contact 化学工学会 学生発表会 問い合せ係
E-mail: inquiry-stu13ewww3.scej.org
This page was generated by easp 2.28; update.pl 2.28 (C)1999-2009 kawase