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第16回化学工学会学生発表会（堺大会）

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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2014-02-07 12:50:15

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ているキーワード		キーワード受理件数
ferroelectric material1件
orientation control1件
silica1件
pulsed laser deposition1件
CVD1件
HMDSO1件

受理
番号		講演題目／発表者キーワード受理日時
11プラズマCVD法を用いたシリカ成膜反応における雰囲気ガスの影響
(京大工) ○(学)出口 利樹・ (学)竹田 依加・ (正)河瀬 元明		CVD
HMDSO
silica
12/2
21:21:30
155強誘電体の配向性制御による劣化特性の評価
(阪府大工) ○(学)天野 泰河・ (阪府大院工) (学)高田 瑶子・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ (阪府大工) 吉村 武・ 藤村 紀文・ (阪大産研) 樋口 宏二・ 北島 彰・ 大島 明博		ferroelectric material
pulsed laser deposition
orientation control
12/6
16:52:59
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