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化学工学会第17回学生発表会(八戸大会)

講演プログラム(セッション別)

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A会場午前

A03-A12

最終更新日時:2015-03-06 08:45:40
講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
A 会場
(9:30〜10:45) (座長 山本 歩・小林 大祐)
9:309:45A03逆反応を考慮したエステル化反応速度定数の決定
(八戸工大工) ○工藤 勘弥中居 秀太(正)小林 正樹
reaction rate
microwave
reverse reaction
5-i71
9:4510:00A04シングルモードのマイクロ波照射におけるエステル化反応に及ぼす照射条件の影響
(八戸工大工) ○蛯名 悠幾小笠原 康将(正)小林 正樹
microwave
conversion
esterification
5-e72
10:0010:15A05パラジウム触媒膜を用いたエチレンの直接酸化による酢酸合成
(宇都宮大) (学)○高木和 直輝(正)佐藤 剛史(正)伊藤 直次
palladium membrane
ethylene
direct oxidation
5-d28
10:1510:30A06バイオディーゼル合成に対するホタテ貝殻由来酸化カルシウムの触媒活性向上
(東京市大) ○佐々部 一宏(正)高津 淑人
Biodiesel
Calcium oxide
Scallop shell
5-g1
10:3010:45A07粒子状物質(PM)酸化除去用Ag/CeO2触媒のルースコンタクト活性評価の標準化
(東京高専) ○彦坂 莉希佐瀬 醇小林 靖和
Particulate Matter (PM)
Ag/CeO2 Catalyst
Loose contact
5-a33
(10:45〜12:00) (座長 小林 正樹・高津 淑人)
10:4511:00A08モノメチルトリクロロシランを原料としたSiC-CVDプロセスの滞留時間依存性
(東大工) (学)○中原 拓也(東大院工) (学)嶋 紘平(学)佐藤 登(学)舩門 佑一(学)杉浦 秀俊(IHI基板研) (正)福島 康之(東大院工) (正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
residence time
5-h9
11:0011:15A09CVD法で製膜されたアルミナ膜の配向性
(東大工) ○西澤 慧(正)百瀬 健(京セラ) 谷渕 栄仁(東大工) (正)霜垣 幸浩
CVD
orientation
Al2O3
5-h5
11:1511:30A10超音波刺激を用いたプルロニックミセルからの内包物質放出のメカニズム
(東理大工) ○生田 英之(正)小林 大祐(正)嶋田 友一郎(正)大竹 勝人(正)庄野 厚
Ultrasound
Micelle
Controlled-release
5-b25
11:3011:45A11水熱合成法による鉄酸化物系構造体触媒の創製とそのWGS反応特性
(静大工) (学)○渡辺 周平(静大院) (正)渡部 綾(正)福原 長寿
Water gas shift reaction
Iron oxide
Structured catalyst
5-a8
11:4512:00A12希土類元素の有効利用の検討
(八戸高専) ○柏崎 萌子風穴 彰(岩手大) 若林 篤光(八戸高専) 山本 歩
rare-earth element
genotoxicity
10-h31

講演発表プログラム
化学工学会第17回学生発表会(八戸大会)

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