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化学工学会 第43回秋季大会

講演プログラム（会場・日程別）

J会場 第3日

最終更新日時：2011-08-16 00:00:00
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム ＜材料・界面討論会「塗布技術と表面加工」＞
(9:00〜10:00)　(座長 柳沢 健司)
9:00〜 9:40J301[招待講演] インクジェット成膜法における液滴内部の移動現象
(九大) ○(正)深井 潤
inkjet
polymer solution
natural convection
S-1180
9:40〜 10:00J3032成分溶液滴の蒸発速度の検討
(九大院工) ○(学)南里 功美 ・ (学)鬼塚 健二 ・ (九大工) (正)中曽 浩一 ・ (正)深井 潤
Evaporation
Binary Solvent
Droplet
S-11849
(10:00〜10:40)　(座長 三浦 秀宣)
10:00〜 10:20J304ポリマー添加による塗布膜乾燥の促進・抑制効果
(九工大工) ○(学)那須 徹雄 ・ (正)山村 方人 ・ (正)馬渡 佳秀 ・ (正)鹿毛 浩之
phase separation
coating
drying rate
S-11471
10:20〜 10:40J305蛍光観察によるフィルム乾燥中の高分子偏析過程の可視化
(九工大工) ○(学)森光 大樹 ・ (正)山村 方人 ・ (正)馬渡 佳秀 ・ (正)鹿毛 浩之
visualization
segregation
coating
S-11387
(10:40〜11:40)　(座長 安原 賢)
10:40〜 11:20J306[招待講演] 高分子溶液からのフィルム形成過程における表面・界面の固化現象と残留応力発現機構
(東工大) ○扇澤 敏明 ・ 勝又 麗香 ・ 久保山 敬一
Solvent cast polymer film
Residual stress
Solidification process
S-1183
11:20〜 11:40J308real time FT-IRによる紫外線硬化樹脂の硬化過程の解析
(京大工) ○(正)瀧 健太郎 ・ (学)満渕 裕幸 ・ (正)大嶋 正裕
photopolymerization
UV curing
real time FT-IR
S-1147
(11:40〜12:00)　(司会 広瀬 閥)
11:40〜 12:00J309パーフルオロアルキル基含有高分子共重合体を用いる新規な表面撥水処理技術
(豊橋技大) (正)吉田 絵里 ・ (レニアス) ○(正)金安 由里子
Hydrophobic surface
Perfluoroalkyl-containing copolymers
Polymer-coated surface
S-1131
(13:00〜13:40)　(座長 広瀬 閥)
13:00〜 13:20J313室温インプリント法によるシリカガラス表面への微細加工‐SiO2-PVAナノコンポジットの作製プロセスの開発‐
(九大院工) ○(学)岳 丹丹 ・ (学)三宅 広則 ・ (学)山田 利佳 ・ (正)藤野 茂 ・ (正)梶原 稔尚
Nanocomposite
Silica glass
Room-temperature imprinting
S-11184
13:20〜 13:40J314誘電物性を利用した塗工層中に含まれる微量水分の測定方法
(王子製紙) ○(正)澤本 英忠 ・ 永田 紳一
dielectric property
micro wave
water content
S-11395
(13:40〜14:40)　(座長 浅間 英夫)
13:40〜 14:00J315OpenFOAM自由表面解析精度の検証
(CRACFDWG / 三菱製紙) ○安原 賢
OpenFOAM
free surface
CFD
S-11746
14:00〜 14:20J316ブレード塗布の塗布流動解析
(三菱製紙) ○安原 賢 ・ 小関 洋介
blade coating
CFD
FSI
S-11752
14:20〜 14:40J317グラビア塗布における転写挙動の流動解析
(古河スカイ) ○(部)渡辺 睦子 ・ (FITEC) 石丸 泰之
gravure coating
transfer process
CFD
S-11497
講演プログラム
化学工学会 第43回秋季大会
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Most recent update: 2011-08-16 00:00:00
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