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化学工学会 第86年会

Last modified: 2023-05-15 19:09:22

講演プログラム（会場・日程別） : J会場・第1日

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J 会場() ・ 第 1 日(3月20日(土))

4 分離プロセス

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
4. 分離プロセス
12:40～ 13:00J112対向拡散CVD法による耐熱性シリカ膜の開発
(RITE) ○(正)浦井 宏美・ (正)瀬下 雅博・ 山口 祐一郎・ (正)中尾 真一
CVD
Silica membrane
thermal stability
4-a228
(13:00～14:40) (座長 河瀬 元明・中尾 公人)
13:00～ 13:20J113MORゼオライト膜のイソプロピルアルコール透過性制御
(芝浦工大工) ○(正)野村 幹弘・ 吉田 有希・ 山賀 崚平・ (学)石井 克典
MOR zeolite membranes
Water/Isopropanol
post-treatment
4-a12
13:20～ 13:40J114シリコン系サブナノ多孔膜による浸透気化:透過特性と細孔構造の相関
(広大院工) ○(学·技基)森山 教洋・ 河野 優太・ Wang Qing・ 井上 遼太・ Guo Meng・ 横治 真人・ (広大院先進理工) (正)長澤 寛規・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Pervaporation
Organosilica
Silicon carbide
4-a36
13:40～ 14:00J115オゾンを反応助剤とした対向拡散CVDシリカ膜の膜特性
(芝浦工大院理工) ○(学)石井 克典・ (芝浦工大工) (正)野村 幹弘
silica membrane
chemical vapor deposition
inorganic membrane
4-a96
14:00～ 14:20J116Nanochannel-confined charge repulsion of ions in a reduced graphene oxide membrane
(Kobe U.) ○(海)Guan Kecheng・ (正)Matsuyama Hideto
graphene oxide
nanochannel
ion transport
4-a127
14:20～ 14:40J117Facile development and microstructure tuning of ligand-chelated SiO2-ZrO2 composite membranes
(Hiroshima U.) ○(学)Lawal Sulaiman・ (正)Kanezashi Masakoto・ (正)Nagasawa Hiroki・ (正)Tsuru Toshinori
Chelating ligands
Silica-zirconia
Thermal initiation
4-a158
(15:00～16:00) (座長 脇 慶子)
15:00～ 15:20J119A novel design of metal coordinated aminosilica for highly permeable membrane
(Hiroshima U.) ○(学)Anggarini Ufafa・ (正)Yu Liang・ (正)Nagasawa Hiroki・ (正)Kanezashi Masakoto・ (正)Tsuru Toshinori
metal-doping
aminosilica membrane
coordination creates microporosity
4-a259
15:20～ 15:40J120誘電体バリア放電を用いた大気圧プラズマCVDによるシリカ膜の高速製膜
(広大院先進理工) ○(正)長澤 寛規・ (広大院工) (学)登尾 拓史・ (広大院先進理工) (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Atmospheric pressure plasma
plasma-enhanced CVD
Silica membranes
4-a385
15:40～ 16:00J121水熱処理条件がフッ素系シリカ膜の水熱安定性に及ぼす影響
(広大院先進理工) ○(正)金指 正言・ (広大院工) 畑岡 直弥・ (広大院先進理工) (正)長澤 寛規・ (正)都留 稔了
Fluorine-silica
Hydrothermal stability
High temperatures
4-a435
(16:00～17:20) (座長 遠藤 宣隆)
16:00～ 16:20J122Facile development of comprehensively fouling-resistant and self-cleaning high performance aliphatic polyketone-based thin film composite forward osmosis membrane for treatment of oily wastewater
(Kobe U.) ○(正)Gonzales Ralph Rolly・ Zhang Lei・ (UTS) (正)佐々木 雄史・ Shon Ho Kyong・ (Kobe U.) (正)松山 秀人
Forward osmosis
Thin film composite membrane
Reduced polyketone
4-a464
16:20～ 16:40J123高圧条件下におけるハイシリカCHA膜のCO2分離機構
(工学院大先進工) ○(学)廣澤 史也・ (正)宮川 雅矢・ (正)高羽 洋充
High-silica CHA memrbane
Non equilibrium molecular dynamics
High pressure
4-a542
16:40～ 17:00J124ゲル層や膜の弾性とクロスフローを利用したろ過後の捕捉粒子の回収
(佐賀大理工) ○(正)川喜田 英孝・ 三好 麻香・ (正)森貞 真太郎・ (正)大渡 啓介
elasticity
membrane
particle recovery
4-b111
17:00～ 17:20J125Effects of Charge Density on the Relaxation Behavior of Adsorbed Polycation on the Negatively Charged PSL Particles by means of Colloidal Particle Tracking and Electrophoresis
(筑波大) ○(正)足立 泰久・ チハヘ ドアン
Flocculation
Polyelectrolyte
Relaxation
4-b218
17:20～ 17:40J126電気粘性効果による精密ろ過膜のフラックスの変化と表面改質の影響
(横国大工) ○(正)中村 一穂・ (横国大) (正)和久井 健司・ (横国大理工) 末永 毅
Microfiltration Membrane
Electro viscose effect
Surface modification
4-b411

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