第21回化学工学会学生発表会(京都大会): 講演プログラム（セッション別）

`第21回化学工学会学生発表会(京都大会)`

講演プログラム（セッション別）

反応工学, エレクトロニクス

N11-N16

最終更新日時：2019-02-18 13:09:45

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
N 会場
(13:00～14:12) (座長井上元・谷屋啓太)
13:00～ 13:12	N11	マイクロ流路を利用した蒸留デバイスの開発と性能評価 (京大院工) (学)○西ヶ谷紘佑・ (学)小野竣佐・ (正)玉造渉・ (正)村中陽介・ (正)牧泰輔・ (正)前一廣	micro channel distillation vapor-liquid equilibrium	5-f	116
13:12～ 13:24	N12	ベンゼンからの炭素CVD速度に水蒸気が与える影響 (京大工) (学)○松田萌・ (学)牧野優作・ (正)河瀬元明	CVD Carbon Steam	5-h	121
13:24～ 13:36	N13	酸化銅を用いた水素の迅速処理における気固反応モデルの構築 (京大工) (学)○菅谷太輝・ (正)蘆田隆一・ (東芝エネルギーシステムズ) (法)岡部寛史・ (法)山田昂・ (京大工) (正)河瀬元明	Gas-solid reaction Copper oxide Hydrogen removal	5-e	126
13:36～ 13:48	N14	トリエチルアルミニウムからの硬質アルミナ膜の作製法の開発 (京大工) (学)○小川輝・ (学)中村琢海・ (正)河瀬元明	CVD Alumina coating Triethylaluminum	5-h	129
13:48～ 14:00	N15	RFプラズマCVD法によるTiBC系硬質膜の低温成長 (阪府大) ○冨士和樹・ (学)清川大地・ (正)岡本尚樹・ (正)齋藤丈靖	RF plasma CVD hard coatings TiBCN	5-h	145
14:00～ 14:12	N16	銅粒子の錯体化による導電性膜の合成 (広大工) ○岩村悠太・ (広大院工) (正)矢吹彰広	Printable electronics Conductive film Copper particle	11-c	64

講演発表プログラム
第21回化学工学会学生発表会(京都大会)

(C) 2019 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
Most recent update: 2019-02-18 13:09:45
For more information contact 第21回化学工学会学生発表会(京都大会)実行委員会
E-mail: inquiry-stu21w

www3.scej.org

This page was generated by