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化学工学会 第41回秋季大会

講演プログラム（会場・日程別）

H会場

最終更新日時：2009-09-07 16:36:42

第1日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム ＜プロセス強化を目指したダイナミックな反応と移動現象促進＞
(9:20～10:20)　(座長 平野 博之)
9:20～ 9:40H102格子ボルツマン法によるPEFC拡散層からガス流路へ湧出する微小液滴の挙動解析
(九大院工) ○(正)松隈 洋介・(九大工) (正)古賀 優一・(九大院工) (正)井上 元・(正)峯元 雅樹		PEFC
Gas diffusion layer
Lattice Boltzmann Method
S-18814
9:40～ 10:00H103格子ボルツマン法による塑性流体流れの数値解析
(室蘭工大院工) ○(学)中村 龍也・(正)太田 光浩・(正)吉田 豊・(九大院工) (正)松隈 洋介		Lattice Boltzmann method
Bingham model
Casson model
S-18294
10:00～ 10:20H104相互作用するBelousov-Zhabotinsky反応濃度振動子群における同期現象の解析
(阪大院基工) ○(学)石丸 拓・(東ソー) 福本 耕平・(阪大院基工) (学)岡田 文太朗・(正)橋本 俊輔・(正)井上 義朗		Connective Oscillator
Synchronization
Belousov-Zhabotinsky Reaction
S-18225
(10:20～11:20)　(座長 太田 光浩)
10:20～ 10:40H105マイクロ流路内における交互流に与える物性値の影響
(岡山理大院) ○(学)松野 弘貴・(岡理大工) (正)平野 博之・(正)岡本 直孝		microchannel
segmented flow
Capillary number
S-18623
10:40～ 11:00H106ノンエレメントミキサーの対流混合過程に関する数値解析的検討
(慶應大理工) ○(学)奥田 徳幸・(正)兪 善昊・(正)樋口 尚孝・(正)大村 亮・(正)横森 剛・(正)藤岡 沙都子・(正)植田 利久		non-element mixer
chaos
CFD
S-18601
11:00～ 11:20H107マイクロ流路内液液二相流れの状態推定のためのクラスタリング手法
(東工大院理工) ○(学)荻原 正章・(正)松本 秀行・(正)黒田 千秋		Self-Organizing Map
Micro Chemical Process
Clustering
S-18134
(11:20～12:00)　(司会 松隈 洋介)
11:20～ 12:00H108[展望講演]燃料電池とCO2貯留の研究開発にみるin situ計測がもたらす新展開
(東工大院) ○津島 将司・平井 秀一郎		fuel cell
CO2
S-18539
(13:00～13:40)　(司会 大村 直人)
13:00～ 13:40H113[展望講演] マイクロリアクターを用いた触媒反応場の設計
(京大院工) ○(正)牧 泰輔		Microreactor
Catalytic Reactor
Methanol Decomposition
S-18752
(13:40～14:40)　(座長 外輪 健一郎)
13:40～ 14:00H115アルマイト触媒を用いた温度非定常操作マイクロリアクターの研究
(東農工大工) ○(正)桜井 誠・加藤 智大・(正)亀山 秀雄		non-steady operation
alumite catalyst
micro reactor
S-18109
14:00～ 14:20H116スプレーパルス法による2-プロパノール脱水素反応の研究
(東農工大工) ○(正)桜井 誠・莅戸 和幸・(正)亀山 秀雄		spray pulse method
non-steady operation
dehydrogenation
S-18110
14:20～ 14:40H117動的撹拌部をもつミリリアクターの液―液分散特性
(神戸大院工) ○(学)中常 敬介・(学)松本 太一・(学)堀江 孝史・(正)大村 直人		reactor design
millireactor
droplet formation
S-18746
(14:40～15:40)　(座長 河合 秀樹)
14:40～ 15:00H118温度周期操作下における不均一触媒反応の平均反応速度と素反応の温度依存性の関係
(徳島大院STS研) ○(正)外輪 健一郎・(徳島大院先端教育部) (学)黒田 勝也・(学)奥山 大輔・(徳島大院STS研) (正)杉山 茂・(正)中川 敬三		microreactor
forced temperature cycling
reaction rate
S-18500
15:00～ 15:20H119数値解析による高効率クラッキングチューブの開発
(住友金属工業) ○(正)濱荻 健司・樋口 淳一・山下 正尚		thermal cracking
CFD
Finned tube
S-18457
15:20～ 15:40H120界面活性剤とPVAの混合添加剤による氷スラリーの氷成長抑制効果
(神戸大院) ○(学)小中 孝則・(神戸大院工) (正)鈴木 洋・(正)菰田 悦之・(神戸製鋼) 藤澤 亮		Ice Slurries
Surfactants
Ostwald Ripening
S-18441
(15:40～16:40)　(座長 桜井 誠)
15:40～ 16:00H121アスペクト比の小さいTaylor渦による光合成微生物の増殖特性について
(室蘭工大) ○(正)河合 秀樹・(東京電力) 安井 砂雄・(室蘭工大) (学)岡元 隆典		Taylor Vortex Flow
photo-bioreactor
solid-liquid mixing
S-18784
16:00～ 16:20H122糖代謝ネットワークを強化した酵母による混合糖からのバイオエタノール生産
(神戸大院工) ○(学)堀田 淳史・(学)伊藤 友教・(神戸大工) 内田 敦子・(群大院工) (正)谷野 孝徳・(神戸大院工) (正)荻野 千秋・(正)大村 直人		bioethanol
xylose metabolic pathway
fermentation
S-18844
16:20～ 16:40H123連続乳化重合プロセス強化を目指したコンパートメント反応器の性能評価
(神戸大院工) ○(正)堀江 孝史・(学)銭谷 優香・(正)熊谷 宜久・(正)大村 直人		continuous emulsion polymerization
compartment reactor
process intensification
S-18449
(16:40～17:20)　(座長 大村 直人)
16:40～ 17:00H124超音波自己相関法によるTaylor渦の速度分布計測
(室蘭工大) ○(正)河合 秀樹・(王子製紙) 新部 智由・(室蘭工大) (学)小林 広精		Taylor Vortex Flow
Ultrasonic measurement
Velocity profile
S-18778
17:00～ 17:20H125フロンの光脱塩素反応におけるNaOHによる塩効果の測定
(法政大工) ○(学)厚見 慶・(正)西海 英雄		Solubility
Salting effect
Henry's low constant
S-18280

第2日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム ＜エレクトロニクス材料とプロセス＞
(13:00～15:00)　(座長 石井　正人・老田　尚久)
13:00～ 13:20H213銀配線、銅配線の配線間短絡までの時間
(京大) ○(正)荻野 文丸		ion migration
short circuit
Ag, Cu wiring
S-5508
13:20～ 13:40H214有機基板を用いた微量イオンセンシングに関する基礎検討
(日立化成工業) ○(正)中村 英博		self-assembling monolayer
sensor
reproducibility
S-5447
13:40～ 14:00H215スパッタイオンプレーティング法を用いたCuシード膜の作製と評価
(新明和) ○(部)丸中 正雄・土屋 貴之・(阪府大院工) (正)近藤 和夫・(正)齊藤 丈靖		Cu Seed
Electoro-Migration
Through Silicon Via
S-543
14:00～ 14:20H216Si貫通電極(TSV)の高速Cuめっき
(阪府大院工) ○(正)近藤 和夫・鈴木 裕士・(正)齊藤 丈靖・(正)岡本 尚樹・(新明和) (部)丸中 正雄・土屋 貴之		Copper
TSV
Electrodeposition
S-542
14:20～ 14:40H217フィルドビアめっきにおけるジアリルアミン系添加剤の効果
(阪府大院工) ○(学)久利 英之・(正)岡本 尚樹・(正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫・(日東紡) 文屋 勝・竹内 実		Copper
Electrodeposition
Via-filling
S-5365
14:40～ 15:00H218高アスペクト比キャビティ内の流動解析
(阪府大院工) ○(学)小山 義則・鈴木 裕士・(正)岡本 尚樹・(正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫		high aspect ratio
bump
numerical analysis
S-5671

第3日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム ＜エレクトロニクス材料とプロセス＞
(9:00～10:40)　(座長 中村　英博・近藤　和夫)
9:00～ 9:20H301アモノサーマル法によるGaN単結晶育成における金属触媒の検討
(東北大多元研) ○(学)栗林 岳人・(学)石鍋 隆幸・鏡谷 勇二・(正)冨田 大輔・石黒 徹・(正)横山 千昭		crystal growth
gallium nitride
supercritical ammonia
S-5552
9:20～ 9:40H302アモノサーマル法によるGaN単結晶育成において育成温度・圧力が与える影響
(東北大多元研) ○(学)石鍋 隆幸・(学)栗林 岳人・鏡谷 勇二・(正)冨田 大輔・石黒 徹・(正)横山 千昭		crystal growth
gallium nitride
supercritical ammonia
S-5565
9:40～ 10:00H303塩化水素ガスによる酸化ハフニウムエッチング
(横国大院工) ○(正)羽深 等・(横国大工) 山地 正彦・小堀 嘉嗣・(日立国際電気) 堀井 貞義・国井 泰夫		HfO2
hi-k
S-534
10:00～ 10:40H304[招待講演]　MEMS動向
(九大) ○澤田 廉士		MEMS
Life
Packaging
S-545
(10:40～12:00)　(座長 羽深　等・荻野　文丸)
10:40～ 11:00H306酸化物ナノ結晶の水熱合成とその堆積による電界効果トランジスタの形成
(東北大多元研) ○(正)高見 誠一・(NIMS) 早川 竜馬・若山 裕・知京 豊裕・(東北大WPI) (正)北條 大介・(正)南 公隆・(東北大多元研) (正)有田 稔彦・(東北大WPI) (正)阿尻 雅文		metal oxide nanocrystal
drop cast
field-effect transistor
S-5791
11:00～ 11:20H307ZnS基板に対するスルーホールフィリングめっき
(阪府大院工) ○(正)岡本 尚樹・(阪府大工) 宮本 めぐみ・(阪府大院工) (正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫・(日産自動車) 福本 貴文・廣田 正樹		ZnS
deposition
Cu
S-5429
11:20～ 12:00H308[招待講演]電子ペーパー「QR-LPD」の実用化と技術開発の状況
(ブリヂストン) ○田沼 逸夫		Electronics
Paper
Packaging
S-5444
(13:00～15:00)　(座長 高見　誠一・齊藤　丈靖)
13:00～ 13:40H313[招待講演]　有機エレクトロニクス・フォトニクスの最近の展開
(産総研) ○八瀬 清志		Organic
Device
Printing
S-548
13:40～ 14:00H315ゾルゲル法による酸化亜鉛透明導電膜の調製
(東理大工) ○(学)伊藤 俊尚・(正)大竹 勝人・(正)庄野 厚・(正)高橋 智輝・今野 紀二郎		zinc oxide
sol-gel method
thin films
S-5650
14:00～ 14:20H316ITOナノ粒子を用いたホットプレス法による透明導電膜
(広大院工) ○(学)奥村 和磨・(正)矢吹 彰広		indium tin oxide
hot-press
nanoparticles
S-5152
14:20～ 14:40H317銅ナノ粒子を用いた導電膜
(広大院工) ○(学)Arriffin N.・(正)矢吹 彰広		Copper nanoparticles
Conductive film
Inkjet
S-5153
14:40～ 15:00H318イメージセンサー用感光性接着フィルムの開発
(住友ベークライト) ○高橋 豊誠・川田 政和		Adhesive
Photodefinable
Wafer level pakage
S-5646
(15:00～16:40)　(座長 岡本　尚樹・矢吹　彰広)
15:00～ 15:40H319[招待講演] LED周辺技術の最新技術動向と将来展望
(山口大) ○田口 常正		LED
Electronics
Packaging
S-5302
15:40～ 16:00H321電解銅箔より発生するノジュールの析出に関する検討
(阪府大院工) ○(正)岡本 尚樹・高橋 聡・(正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫		Cu
electrodeposition
nodule
S-5119
16:00～ 16:20H322微小形状へのNiめっき膜の作製と形状制御
(阪府大院工) ○(学)安宅 一泰・(正)岡本 尚樹・(正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫		electrodeposition
nickel
pattern
S-5642
16:20～ 16:40H323FeCoNi三元合金による微小構造物の作製と組成制御
(阪府大院工) ○(学)山田 雅士・(正)岡本 尚樹・(正)齊藤 丈靖・(正)近藤 和夫		electrodeposition
alloy
pattern
S-5818
講演プログラム
化学工学会 第41回秋季大会
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Most recent update: 2009-09-07 16:36:42
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