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化学工学会 第43回秋季大会

S-31. [CR,MI] CVD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学−

オーガナイザー 齊藤丈靖(大阪府大)・玉置直樹(東芝)

環境・エネルギー問題への関心が高まる中、太陽電池や照明、ディスプレイに向けた大面積かつ低コストでの薄膜・微粒子形成技術が注目を集めています。また、微細化限界の見えてきた電子デバイスにおいても、新しい高機能膜の製膜・加工技術が求められています。特定の応用用途にとらわれることなく、反応メカニズムの理解を通して、広く薄膜形成・微粒子合成・微細加工プロセスにおける構造・機能制御の方法論について議論することを目的とします。トライアル&エラーに頼らない論理的な最適化の方法論を考えることで、参加者がプロセスの課題を共有し、活発な討議となることを期待します。


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化学工学会 第43回秋季大会

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Most recent update: 2011-05-24 20:29:11
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