SCEJ

化学工学会 第45回秋季大会

講演プログラム（会場・日程別）

English page

D 会場

最終更新日時：2013-08-20 14:03:53

第 1 日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム <医用化学工学のニーズとシーズ　－これからの展望－>
(10:00～11:20) (座長 林 啓太・吉見 靖男)
10:00～ 10:20D104Preparation of uniform-sized hemoglobin-albumin microspheres as oxygen carriers by Shirasu porous glass membrane emulsification technique
(東大院工) ○(学)Lai Yaotong・ (東大院医) (正)太田 誠一・ (東大院工) (学)佐藤 真優・ (正)鈴木 幸光・ (工學院大) (正)赤松 憲樹・ (正)中尾 真一・ (東大院工) (正)酒井 康行・ (東大院工/東大院医) (正)伊藤 大知
Oxygen carriers
SPG membrane
Membrane emulsification
S-9778
10:20～ 10:40D105エマルション内架橋プロセスによるナノゲル架橋マイクロスフェアの開発
(JST-ERATO) ○(正)田原 義朗・ 向井 貞篤・ (京大院工) 澤田 晋一・ 秋吉 一成
polysaccharides
emulsion
drug delivery
S-982
10:40～ 11:00D106スパン系界面活性剤によるベシクルの調製ならびに膜特性評価
(奈良高専物質化工) ○(正)林 啓太・ 磐井 秀香・ 濱田 七海・ 松村 真希・ 松本 明日香・ 雜賀 聡美・ (正)中村 秀美
vesicle
membrane
DDS
S-9615
11:00～ 11:20D107マクロファージを標的とした新規カリウムイオン応答性デンドリティックポリマーの創製
(東大院医) ○(正)太田 誠一・ (東大院医/東大院工) (正)伊藤 大知
dendritic polymer
potassium ion
macrophage
S-9597
(11:20～12:00) (司会 崎山 亮一)
11:20～ 12:00D108[招待講演] 高輝度発光タンパク質の医学応用
(阪大産業科学研) ○永井 健治
Nano-lantern
S-9100
(13:00～14:20) (座長 水本 博・伊藤 大知)
13:00～ 13:20D113自己組織化ペプチドを用いた培養皿表面の設計
(横国大工) ○(正)福田 淳二・ (筑波大数理) (学)掛川 貴弘・ (Politecnico di Milano) Alfonso Gautieri
Tissue engineering
Zwitterionic oligoepeptide
Electrochemistry
S-9527
13:20～ 13:40D114マイクロパターニング技術を利用したES胚様体培養
(北九大工) ○(正)中澤 浩二・ 原 拓也
Micropatterning culture
Embryoid body
ES cells
S-9563
13:40～ 14:00D115分子インプリント高分子の固定電極を用いたヘパリンセンサの選択性
(芝浦工大) ○(正)吉見 靖男・ (学)芳野 和香
Heparin
Molecularly Imprinted Polymer
Sensor
S-918
14:00～ 14:20D116血液浄化療法における操作条件による溶質除去特性
(女医大臨工) ○(正)崎山 亮一・ (正)山本 健一郎・ 石森 勇・ 秋葉 隆・ (正)峰島 三千男
Hemodiafitration
Artificial kidney
Clearance
S-996
(14:20～15:00) (司会 井嶋 博之)
14:20～ 15:00D117[招待講演] 肝胆膵外科における医工連携の未来
(九大二外) ○山下 洋市・ 調 憲・ 戸島 剛男・ 吉屋 匠平・ 木村 光一・ 松本 佳大・ 中川原 英和・ 別城 悠城・ 今井 大祐・ 池上 徹・ 吉住 朋晴・ 池田 哲夫・ (九大院工) (学)白木川 奈菜・ (正)井嶋 博之・ (九大二外) 前原 喜彦
Hepato-Biliary-Pancreatic surgery
Medicine-Engineering collaboration
Hybrid artificial liver
S-9393
(15:00～16:20) (座長 太田 誠一・中澤 浩二)
15:00～ 15:20D119膵島再生プロセスの想定とコスト試算
(東大院医) ○(正)伊藤 大知・ (正)太田 誠一
regenerative medicine
islet
diabetes
S-91016
15:20～ 15:40D120中空糸/オルガノイド培養法を利用したヒトiPS細胞の肝分化誘導
(九大院工) ○(正)網本 直記・ 堀田 義明・ (正)水本 博・ (正)中澤 浩二・ (正)井嶋 博之・ (正)船津 和守・ (正)梶原 稔尚
Human iPS cells
Hepatic differentiation
Bioartificial liver
S-9341
15:40～ 16:00D121血管網を有する臓器鋳型としての脱細胞化肝臓の再細胞化
(九大院工) ○(学)白木川 奈菜・ (正)井嶋 博之
liver
decellularized liver
recellularization
S-9996
16:00～ 16:20D122脱細胞化臓器と増殖因子固定化ECMに基づく臓器工学
(九大院工) ○(正)井嶋 博之・ (学)白木川 奈菜・ (学)水町 秀之・ (学)中村 晋太郎・ (正)叶 せい佳・ (九大二外) 今井 大祐・ 山下 洋市・ 調 憲・ 前原 喜彦
Whole Organ Engineering
Decellularized Liver
GF-immobilizable ECM
S-9392

第 2 日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム <CVD・ドライプロセス　－構造・機能制御の反応工学－>
(10:00～12:00) (座長 齊藤 丈靖・池田 圭)
10:00～ 10:20D204Structure and electrochemical performance of rapidly deposited silicon-based porous films for lithium ion rechargeable batteries
(東大院工) ○(学)李 重昊・ (住友化学) 松本 慎吾・ 中根 堅次・ (早大先進理工) (正)野田 優
physical vapor deposition
porous silicon films
lithium ion batteries
S-2956
10:20～ 10:40D205モノメチルトリクロロシランを原料としたSiC-CVDプロセスにおける表面反応を考慮した素反応機構の構築
(東大院工) ○(学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (学)福島 康之・ (学)杉浦 秀俊・ (IHI基盤研) 保戸塚 梢・ (東大院工) (正)百瀬 健・ 越 光男・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
reaction mechanism
S-2637
10:40～ 11:00D206モノメチルトリクロロシランを原料としたSiC-CVDプロセスの総括反応モデルの検討
(東大院工) ○(学)福島 康之・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (学)杉浦 秀俊・ (IHI基盤研) 保戸塚 梢・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
Methyltrichlorosilane
S-2436
11:00～ 11:20D207プラズマCVD法によるヘキサメチルジシロキサンと酸素からのシリカ成膜
(京大工) ○(学)竹田 依加・ (学)永冶 渉・ (学)高橋 諒・ (正)河瀬 元明
Plasma CVD
HMDSO
silica
S-2835
11:20～ 11:40D208赤色発光シリコン材料の気相合成と発光特性
(東大院工) ○(学)大武 秀稔・ (農工大院BASE) (正)稲澤 晋・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子・ (東大院工) (正)山口 由岐夫
CVD
nanoparticles
photoluminescence
S-2410
11:40～ 12:00D209亜鉛還元法によるシリコン形態形成メカニズム
(東大院工) ○(学)小野 大和・ (農工大院BASE) (正)稲澤 晋・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子・ (東大院工) (正)山口 由岐夫
zinc reduction reaction
silicon
supersaturation
S-2413
(13:00～14:20) (座長 下山 裕介・川上 雅人)
13:00～ 13:40D213[展望講演] ナノマテリアルプロセッシングのための超臨界流体の利用
(東北大) ○(正)阿尻 雅文
Supercritical
Nano
Processing
S-2885
13:40～ 14:00D215[招待講演] 超臨界流体を利用した化合物半導体太陽電池製造の低コスト化
(東北大多元研) ○(正)笘居 高明・ (正)本間 格
supercritical fluid
selenization
solar cells
S-2351
14:00～ 14:20D216アルコール添加による超臨界流体を用いたTiO2膜形成
(東大院工) ○(学)趙 ユウ・ (学)鄭 珪捧・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
Supercritical fluid deposition
TiO$2$
alcohol
S-2622
(14:20～15:40) (座長 河瀬 元明・筑根 敦弘)
14:20～ 15:00D217[展望講演] MOCVDによる窒化物半導体の気相成長
(大陽日酸) ○松本 功
Nitride Semiconductors
MOCVD
Quantum Chemical Calculation
S-2377
15:00～ 15:20D219GaN系MOVPEにおける成長速度・組成の解析と制御(1)
(東大院工) ○(正)百瀬 健・ 神谷 達也・ (正)杉山 正和・ (正)霜垣 幸浩
GaN
MOVPE
反応解析
S-2855
15:20～ 15:40D220GaN系MOVPEにおける成長速度・組成の解析と制御(2)
(ミラノ工大) ○Ravasio Stefano Valerio・ (東大院工) (正)百瀬 健・ 藤井 克司・ (正)霜垣 幸浩・ (ミラノ工大) Carlo Cavallotti・ (東大院工) (正)杉山 正和
GaN
MOVPE
反応解析
S-2931

第 3 日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
シンポジウム <CVD・ドライプロセス　－構造・機能制御の反応工学－>
(9:40～10:40) (座長 島田 学・玉置 直樹)
9:40～ 10:00D303[招待講演] スパッタ法による鉄チタン複酸化物薄膜の作製と混合原子価制御
(岡山大院自然) ○藤井 達生
reactive sputtering
Hematite-ilmenite solid solution
epitaxial thin
S-2353
10:00～ 10:20D304各種Ti系硬質材料の低温CVDと物性評価
(阪府大院工) ○(学)根崎 基信・ 政岡 弘侑・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ (アルテックス) 咸 智惇
titanium carbide
hard coating
chemical vapor deposition
S-2946
10:20～ 10:40D305Coアミディネートを用いたCo-CVDプロセスにおける気相反応とその役割
(東大院工) ○(学)鈴木 雄大・ (正)清水 秀治・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
amidinate
cobalt
thermal CVD
S-2508
(10:40～12:00) (座長 野田 優・三浦 豊)
10:40～ 11:00D306高配向性導電性酸化物下部電極を用いた強誘電体キャパシタの作製と評価
(阪府大院工) ○(学)高田 瑶子・ 辻 徹・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ 吉村 武・ 藤村 紀文・ (阪大産研) 樋口 宏二・ 北島 彰・ 大島 明博
ferroelectric material
pulsed laser deposition
conductive oxide
S-2947
11:00～ 11:20D307新規Ru-CVD/ALD原料を用いた次世代DRAM電極形成プロセスの開発
(東大院工) ○(学)金 泰雄・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
Ruthenium
CVD
ALD
S-2605
11:20～ 11:40D308アミディネート原料を用いたCu-CVDにおける初期核発生の観察
(東大院工) ○(学)嶋 紘平・ (正)清水 秀治・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
Cu-CVD
Nucleation
Amidinate
S-2959
11:40～ 12:00D309[招待講演] TSV実装技術向けSiエッチング技術
(アルバック半導体電子技研) ○森川 泰宏
Si-DRIE
Scallop-free
TSV packaging
S-2356
(13:00～14:20) (座長 秋山 泰伸・三宅 雅人)
13:00～ 13:20D313Kinetic study on Hot-wire-assisted Atomic Layer Deposition of Ni Thin Films
(The U. Tokyo) ○(学)Yuan Guangjie・ (正)Shimizu Hideharu・ (正)Momose Takeshi・ (正)Shimogaki Yukihiro
Hot-wire-assisted ALD
Ni film
Kinetics
S-2803
13:20～ 13:40D314ナノ粒子堆積膜の焼成による構造制御
(広大院工) ○(学)萬谷 勇樹・ (正)久保 優・ (正)島田 学
PECVD
Porous thin film
Sintering
S-2123
13:40～ 14:00D315有機クロロシランを原料としたSiC-CVDプロセス出口ガス分析による反応モデルの検討
(東大院工) ○(学)舩門 佑一・ (学)佐藤 登・ (学)福島 康之・ (学)杉浦 秀俊・ (IHI基盤研) 保戸塚 梢・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CVD
Metyltrichlorosilane
Dimetyldichlorosilane
S-2587
14:00～ 14:20D316ジメチルジクロロシランを原料としたSiC-CVDプロセスのマルチスケール解析
(東大院工) ○(学)杉浦 秀俊・ (学)福島 康之・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (IHI基盤研) 保戸塚 梢・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
Dimethyldichlorosilane
S-2577
(14:20～15:40) (座長 霜垣 幸浩・保戸塚 梢)
14:20～ 14:40D317シラン/水素PE-CVD中のシリコン局所製膜の解析
(岐阜大院工) ○(正)西田 哲・ (正)牟田 浩司・ 栗林 志頭眞
PE-CVD
silicon deposition
S-2454
14:40～ 15:00D318メタンを原料とする化学気相浸透法による炭素繊維強化炭素複合材料製造過程の非定常シミュレーション
(九大) ○(正)則永 行庸・ (学)首藤 大紀・ (学)田中 亮太・ (正)工藤 真二・ (正)林 潤一郎
reaction kinetics
transport phenomena
CVD
S-2899
15:00～ 15:20D319カーボンナノチューブの浮遊コーティング
(広大院工) ○(学)角村 洋文・ (正)久保 優・ (正)島田 学
composite
PECVD
nanoparticles
S-2124
15:20～ 15:40D320Fluidized Bed CVD of Carbon Nanotubes Using a Heat-Exchange Reactor
(東大院工) ○(学)陳 忠明・ (早大院理工) 金 東榮・ (正)長谷川 馨・ (正)大沢 利男・ (正)野田 優
carbon nanotubes
fluidized bed
catalytic chemical vapor deposition
S-2729
講演発表プログラム
化学工学会 第45回秋季大会
(C) 2013 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
Most recent update: 2013-08-20 14:03:53
For more information contact 化学工学会 第45回秋季大会 問い合せ係
E-mail: inquiry-45fwww3.scej.org
This page was generated by easp 2.32; proghtml 2.33 (C)1999-2013 kawase