SCEJ

化学工学会 第46回秋季大会

講演申し込み一覧(シンポジウム・講演分類別)


S) シンポジウム

S-37. CVD・ドライプロセス -構造・機能制御の反応工学-

オーガナイザー 河瀬元明(京都大)・三浦 豊(アルバック)・三宅雅人(奈良先端大)

CVDをはじめとするドライプロセスは,エレクトロニクス,太陽電池,MEMS,機能性コーティング等の分野において,基幹技術となっている。本シンポジウムでは,CVDと類縁技術を利用した薄膜形成,微粒子合成,微細加工における製品の構造と機能を制御するために,反応メカニズムの理解による論理的な最適化を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。

最終更新日時:2014-08-04 11:49:01

この分類でよく使われ
ているキーワード
キーワード受理件数
CVD7件**
SiC4件*
methyltrichlorosilane2件
conductive oxide1件

受理
番号
講演題目/発表者キーワード受理日時
147[展望講演] ヘテロ接合デバイスとしてのCIS系薄膜太陽電池技術の現状と将来展望
(昭和シェル石油/ソーラーフロンティア) ○櫛屋 勝巳
CVD
CIS thin film solar cell
Heterojunction device
5/8
11:28:39
148[招待講演] 熱CVD法を用いた水平管型反応器内のTiN 薄膜生成過程における熱物質移動解析
(山口大工) ○(正)田之上 健一郎(宇部興産) 羽鳥 祐耶(山口大工) (正)西村 龍夫
CVD
Titanium nitride
Heat and mass transfer
5/8
11:29:43
149[展望講演] 可溶化カーボンナノチューブを用いた先端ナノ材料開発
(九大院工) ○中嶋 直敏
CVD
Advanced nanomaterial
Carbon nanotube
5/8
11:32:21
161超臨界流体反応を用いて作製した太陽電池用Cu2ZnSn(S,Se)4薄膜の構造特性評価
(東北大多元研) ○(学)中安 祐太(正)岡 伸人(正)笘居 高明(正)本間 格
supercritical fluid
solar cell
CZTS thin film
5/8
13:53:38
268SiC-CVDにおける有機シラン原料の比較検討
(東大院工) ○(学)杉浦 秀俊(学)嶋 紘平(学)佐藤 登(学)舩門 佑一(IHI基盤研) (正)福島 康之(東大院工) (正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
Chlorosilane
5/9
14:40:00
285モノメチルトリクロロシランを原料としたSiC-CVIプロセス最適化のための反応炉スケールシミュレーション
(東大院工) ○(学)舩門 佑一(学)佐藤 登(IHI基盤研) (正)福島 康之(東大院工) (学)嶋 紘平(学)杉浦 秀俊(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
Methyltrichlorosilane
5/9
15:46:01
290172nmVUVによるチタン表面の改質とMPCポリマーコーティング
(岐阜大院) ○(学)山口 恭平(正)神原 信志
VUV
Titan
MPC polymer
5/9
15:57:37
291超臨界流体堆積法を用いた量論組成Bi4Ti3O12製膜
(東大院工) ○(学)チョウ ユウ(学)鄭 珪捧(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
Bi4Ti3O12
supercritical fluid deposition
stoichiometric
5/9
15:57:52
312モノメチルトリクロロシランを原料としたSiC-CVDプロセスにおける圧力依存性を 考慮した素反応機構の構築
(東大院工) ○(学)佐藤 登(学)舩門 佑一(学)嶋 鉱平(学)杉浦 秀俊(正)福島 康之(正)百瀬 健越 光男(正)霜垣 幸浩
SiC
CVD
reaction mechanism
5/9
17:17:08
345気固原料PECVDによるナノ複合膜の合成制御と光触媒活性評価
(広大院工) ○(学)田口 智也(正)久保 優(正)島田 学
thin film
nanoparticle
composite material
5/9
19:19:58
386ホットワイヤALDによるRu薄膜: 成長特性、組成、および構造特性
(東大院工) ○(学)袁 光杰(正)清水 秀治(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
Atomic layer deposition
Hot wire
non-oxidization ambient
5/10
12:47:18
387モノメチルトリクロロシランを用いたSiC-CVDプロセスにおける製膜種付着確率の詳細解析(2)
(東大院工) ○(学)嶋 紘平(学)佐藤 登(学)舩門 佑一(学)杉浦 秀俊(IHI基盤研) (正)福島 康之(東大院工) (正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
CVD
SiC
methyltrichlorosilane
5/10
12:49:49
395プラズマCVDによるシリコン高速製膜の均一化
(岐阜大) ○(正)西田 哲山本 翔太松永 卓真(正)牟田 浩司栗林 志頭眞
プラズマCVD
高速製膜
シリコン
5/10
14:13:13
754プラズマCVD法で作製したシリカ膜構造へのキャリアガスの影響
(京大工) ○(学)竹田 依加(学)出口 利樹(正)河瀬 元明
Plasma CVD
HMDSO
silica
5/12
17:39:23
816導電性酸化物電極を用いた強誘電体キャパシタの作製と劣化機構
(阪府大院工) ○(学)高田 瑶子(学)天野 泰河(正)岡本 尚樹(正)齊藤 丈靖(正)近藤 和夫吉村 武藤村 紀文(阪大産研) 樋口 宏二北島 彰
ferroelectric capacitor
conductive oxide
degradation mechanism
5/12
18:33:39
907常温オゾンCVD法によるリチウムイオン電池用SiOC負極の作製
(阪府大院工) ○(学)辻本 悠一(正)岡本 尚樹(正)齊藤 丈靖(正)近藤 和夫(リグナイト) 井出 勇西川 昌信大西 慶和
Li-ion batteries
SiOC
CVD
5/12
20:19:41
971PLD法による強誘電体薄膜の配向性制御と電気特性
(阪府大院工) ○(学)天野 泰河(学)高田 瑶子(正)岡本 尚樹(正)齊藤 丈靖(正)近藤 和夫吉村 武藤村 紀文(阪大産研) 樋口 宏二北島 彰
ferroelectric material
pulsed laser deposition
orientation control
5/12
21:44:40
999ホローカソード放電によるカーボンナノファイバーの無触媒合成
(東工大院理工) ○(正)森 伸介田中 瑛智(正)鈴木 正昭
Plasma-enhanced CVD
Carbon Nanofiber
Non-catalytic synthesis
5/12
23:03:52

講演申し込み一覧(シンポジウム番号・講演分類番号別)

受理済み講演申込一覧
化学工学会 第46回秋季大会

(C) 2014 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
Most recent update: 2014-08-04 11:49:01
For more information contact 化学工学会九州支部 第46回秋季大会 問い合せ係
E-mail: inquiry-46fwww3.scej.org
This page was generated by easp 2.34; update.pl 2.33 (C)1999-2013 kawase