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化学工学会 第47回秋季大会

講演プログラム(会場・日程別)

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Q 会場・第 3 日

最終更新日時:2015-08-26 10:00:42
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部会シンポジウム SY-13. <塗布技術と表面加工(材料・界面部会)>
このシンポジウムの講演時間は 発表12分+討論8分 です。
(10:00〜11:00) (座長 井上 元・久保 耕司)
10:0010:40Q304[招待講演] 塗布プロセスによる有機/無機半導体薄膜の構造と物性
(東大環安セ) (正)辻 佳子
organic semiconductor
oxide semiconductor
nano-structure
SY-13532
10:4011:00Q306低分子・高分子ハイブリッド有機半導体薄膜の構造・物性制御
(東大院工) (学)○今 宏徳(正)黒澤 千鶴(東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子
OLEDs
film formation dynamics
optical properties
SY-13504
(11:00〜12:00) (座長 菰田 悦之・三輪 靖)
11:0011:20Q307吸着性溶質を含む微粒子分散液の乾燥・濃縮過程の直接数値計算
(東大環安セ) (正)○辰巳 怜(PIA) (正)小池 修(東大環安セ/東大院工) (正)辻 佳子(PIA) (正)山口 由岐夫
direct numerical simulation
colloidal suspension
drying process
SY-13640
11:2011:40Q308直接数値計算による二峰性ナノ粒子分散液の流動メカニズムの検討
(PIA) (正)○小池 修(東大環安セ) (正)辰巳 怜(PIA) (正)山口 由岐夫
rheology
bimodal dispersion
direct numerical simulation
SY-13665
11:4012:00Q309プリンテッドエレクトロニクスにおけるフレキソ印刷不良発生メカニズムの解析
(凸版印刷) (正)○和田 晋一多田 誠篠原 雄一郎飯野 良一
flexo printing
drying process
numerical analysis
SY-13424
(13:00〜14:00) (座長 辻 佳子・安原 賢)
13:0013:20Q313粒子分散液の乾燥過程に於ける粒子充填挙動の解析
(農工大院工) (正)○稲澤 晋忍見 祐(正)神谷 秀博
Drying
colloidal film
packing
SY-13562
13:2013:40Q314グラビアロール上液面プロファイルの測定
(九工大) (正)○三浦 秀宣(正)山村 方人(富士機械工業) 鶴岡 あゆみ
Riverse kiss gravure coating
Doctoring process
Blade thickness
SY-13285
13:4014:00Q315ナノスケール膜厚の水系同時重層塗布の実験的検証
(コニカミノルタ) (法)○坂田 和彦(法)工藤 智広(法)宮崎 敬(法)千葉 隆人
simultaneous multi-layer coating
stability of multi-layer film flow
nanometer scale film
SY-13177
(14:00〜15:00) (座長 稲澤 晋・渡辺 睦子)
14:0014:20Q316スリット噴流による液膜表面流および蒸発の挙動解析
(芝浦工大) (学)○島野 太貴北風 聡坂本 佳祐(芝浦工大) (正)山田 崇(正)小野 直樹
Drying
Film
PVA
SY-13258
14:2014:40Q317ガラス表面に付着する鱗状痕の生成挙動
(岐阜大) (学)○山田 勇介(イシグロ) (共)小森 宇生也(岐阜大) (正)神原 信志
Water spot
Silicone
Laser raman
SY-13484
14:4015:00Q318表面調整剤による塗布膜の細線化
(九大院工) (学)○入濱 勇気(学)山下 麟太郎中川 彰馬(九大工) 坂上 恵(正)深井 潤
coating
solid thin film
wettability
SY-13542

講演発表プログラム
化学工学会 第47回秋季大会

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Most recent update: 2015-08-26 10:00:42
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