SCEJ 50th Autumn Meeting (Kagoshima, 2018): List of the applications (topics)

ST-25. [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス -デバイス構造・機能制御の反応工学-

オーガナイザー:

秋山泰伸（東海大学）・筑根敦弘（大陽日酸(株)）・野田　優（早稲田大学）

CVD等のドライプロセスはエレクトロニクス，太陽電池，MEMS，機能性コーティング等の分野において重要な基幹技術となっている。本シンポジウムでは，CVDとその他のドライプロセスを利用した薄膜形成，微粒子合成，微細加工において反応工学的見地より反応メカニズムを理解し，論理的で効率的な反応プロセスや反応装置の開発を目指し議論することを目的とします。なお，優秀な発表をされた若手研究者には，CVD反応分科会奨励賞を贈呈します．

最終更新日時：2018-12-17 03:35:01

この分類でよく使われているキーワード	キーワード	受理件数
CVD	5件
cutting tool	2件
hard coating	2件
reaction kinetics	1件

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キーワード

受理件数

CVD

5件

cutting tool

2件

hard coating

2件

reaction kinetics

1件

受理番号	講演題目／発表者	キーワード	発表形式
44	[招待講演] グラフェンをはじめとする二次元材料のCVD成長と生成機構 (九大GIC/産総研) 吾郷浩樹	graphene epitaxial growth hexagonal boron nitride	O
113	Cs_xWO₃ ナノ粒子の火炎噴霧合成と光学特性 (広大院工) (学)○平野知之・中倉修平・ (学)Rinaldi Febrigia Ghana・ (正)荻崇	cesium tungsten bronze flame-assisted spray pyrolysis aerosol	O
142	4H-SiC CVDトレンチ埋込成長機構及びHClガス添加効果の検討 (産総研) (正)○望月和浩・紀世陽・足立亘平・小杉亮治・米澤喜幸・奥村元	4H-SiC trench filling HCl	O
226	アミノシラン系SiO₂-ALDの反応速度解析 (東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) (正)○川上雅人・加賀谷宗仁・光成正・佐藤潤・矢部和雄	ALD aminosilane reaction kinetics	O
243	[展望講演] 接触分解反応による活性種を利用した薄膜堆積と表面改質:HWCVD法の基礎と応用展開 (九工大工) 和泉亮	HWCVD Thin film Surface modification	O
330	[招待講演] プラズマエッチングにおけるSiO₂/Si界面準位の生成と制御 (ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング) ○長畑和典・重歳卓志	Plasma Etching Damage	O
336	浮遊触媒形成の温度場制御と単層カーボンナノチューブの気相合成 (早大先進理工) (学)○並木克也・ (早大高等研) (正)杉目恒志・ (早大先進理工) (正)大沢利男・ (正)野田優	single-wall carbon nanotube reaction field control floating catalyst chemical vapor deposition	O
468	[展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望 (京セラ) (法)谷渕栄仁	CVD Cutting tool Hard coating	O
561	熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2) (東大院工) (学)○山口潤・平原智子・ (京セラ) (法)久保隼人・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (京セラ) (法)谷渕栄仁・ (東大院工) (正)霜垣幸浩	CVD TiAlN cutting tool	O
576	Ag粒子とTiO₂粒子の堆積で作製した複合薄膜の可視光照射下での光触媒活性 (広大院工) (学)○正木佑弥・姜殿平・ (正)久保優・ (正)島田学・ (広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K.	PVD PECVD nanoparticle	O
685	Supercritical dying and impregnation for fabrication of porous carbon electrode on Li-O₂/CO₂ battery (東工大物質理工) (学)○Kunanusont Nattanai・ (正)下山裕介	Li- O2/CO2 battery supercritical carbon dioxide ionogel binder	O
832	減圧熱CVD法で作製したリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の比誘電率 (東海大院工) (学)○竹元慧・ (正)秋山泰伸	CVD Lithium-doped Zinc Oxide Ferroelectric	O
879	ミストCVD法による高品質酸化亜鉛薄膜の作製および反応メカニズムの解明 (高知工大院) (学)○西美咲・ (高知工大) 長谷川諒・安岡龍哉・ (高知工大院) 上田真理子・坂本雅仁・佐藤翔太・ Phimolphan Ruttongja・ Liu Li・ (高知工大院/総研) Dang. T Gian・川原村敏幸	Mist CVD ZnO reaction mechanism	O
882	アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発 (京大院工) (学)○中村琢海・ (学)猪口和明・ (学)長田翔・ (京大工) (学)屋嘉比亮・ (正)河瀬元明	CVD alkyl aluminum alumina	O
905	超臨界流体薄膜堆積による高アスペスト比構造への銅の均一製膜指針 (東大院工) (学)○藤田翔太郎・ (正)出浦桃子・ (東工大院理工) (正)下山裕介・ (東大院工) (正)霜垣幸浩・ (正)百瀬健	Supercritical fluid deposition Diffusion coefficient Kinetics	O
919	SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討 (東大院工) (学)○佐藤登・ (正)中智明・ (学)根藤佳史・ (正)舩門佑一・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC CVI Surface Reaction	O
937	RFプラズマCVDによるTiB系硬質膜の製膜と評価 (阪府大院工) (学)○清川大地・ (阪府大工) 冨士和樹・ (阪府大院工) (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖	hard coating plasma CVD TiBCN	O
978	硫化水素添加が熱分解炭素CVDに及ぼす影響 (京大工) (学)○牧野優作・ (正)河瀬元明	CVD Carbon Hydrogen sulfide	O
1058	Tetracene thin film formation for organic photovoltaics by temperature-driven supercritical fluid deposition (東大院工) (学)○黎彦劭・ (正)出浦桃子・ (東工大院理工) (正)下山裕介・ (東大院工) (正)霜垣幸浩・ (正)百瀬健	Temperature-driven Supercritical Fluid Deposition Crystallization Tetracene	O

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番号

講演題目／発表者

キーワード

発表形式

[招待講演] グラフェンをはじめとする二次元材料のCVD成長と生成機構
(九大GIC/産総研) 吾郷浩樹

graphene
epitaxial growth
hexagonal boron nitride

113

Cs_xWO₃ ナノ粒子の火炎噴霧合成と光学特性
(広大院工) (学)○平野知之・中倉修平・ (学)Rinaldi Febrigia Ghana・ (正)荻崇

cesium tungsten bronze
flame-assisted spray pyrolysis
aerosol

142

4H-SiC CVDトレンチ埋込成長機構及びHClガス添加効果の検討
(産総研) (正)○望月和浩・紀世陽・足立亘平・小杉亮治・米澤喜幸・奥村元

4H-SiC
trench filling
HCl

226

アミノシラン系SiO₂-ALDの反応速度解析
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) (正)○川上雅人・加賀谷宗仁・光成正・佐藤潤・矢部和雄

ALD
aminosilane
reaction kinetics

243

[展望講演] 接触分解反応による活性種を利用した薄膜堆積と表面改質:HWCVD法の基礎と応用展開
(九工大工) 和泉亮

HWCVD
Thin film
Surface modification

330

[招待講演] プラズマエッチングにおけるSiO₂/Si界面準位の生成と制御
(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング) ○長畑和典・重歳卓志

Plasma
Etching
Damage

336

浮遊触媒形成の温度場制御と単層カーボンナノチューブの気相合成
(早大先進理工) (学)○並木克也・ (早大高等研) (正)杉目恒志・ (早大先進理工) (正)大沢利男・ (正)野田優

single-wall carbon nanotube
reaction field control
floating catalyst chemical vapor deposition

468

[展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望
(京セラ) (法)谷渕栄仁

CVD
Cutting tool
Hard coating

561

熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2)
(東大院工) (学)○山口潤・平原智子・ (京セラ) (法)久保隼人・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (京セラ) (法)谷渕栄仁・ (東大院工) (正)霜垣幸浩

CVD
TiAlN
cutting tool

576

Ag粒子とTiO₂粒子の堆積で作製した複合薄膜の可視光照射下での光触媒活性
(広大院工) (学)○正木佑弥・姜殿平・ (正)久保優・ (正)島田学・ (広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K.

PVD
PECVD
nanoparticle

685

Supercritical dying and impregnation for fabrication of porous carbon electrode on Li-O₂/CO₂ battery
(東工大物質理工) (学)○Kunanusont Nattanai・ (正)下山裕介

Li- O2/CO2 battery
supercritical carbon dioxide
ionogel binder

832

減圧熱CVD法で作製したリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の比誘電率
(東海大院工) (学)○竹元慧・ (正)秋山泰伸

CVD
Lithium-doped Zinc Oxide
Ferroelectric

879

ミストCVD法による高品質酸化亜鉛薄膜の作製および反応メカニズムの解明
(高知工大院) (学)○西美咲・ (高知工大) 長谷川諒・安岡龍哉・ (高知工大院) 上田真理子・坂本雅仁・佐藤翔太・ Phimolphan Ruttongja・ Liu Li・ (高知工大院/総研) Dang. T Gian・川原村敏幸

Mist CVD
ZnO
reaction mechanism

882

アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発
(京大院工) (学)○中村琢海・ (学)猪口和明・ (学)長田翔・ (京大工) (学)屋嘉比亮・ (正)河瀬元明

CVD
alkyl aluminum
alumina

905

超臨界流体薄膜堆積による高アスペスト比構造への銅の均一製膜指針
(東大院工) (学)○藤田翔太郎・ (正)出浦桃子・ (東工大院理工) (正)下山裕介・ (東大院工) (正)霜垣幸浩・ (正)百瀬健

Supercritical fluid deposition
Diffusion coefficient
Kinetics

919

SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討
(東大院工) (学)○佐藤登・ (正)中智明・ (学)根藤佳史・ (正)舩門佑一・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩

SiC
CVI
Surface Reaction

937

RFプラズマCVDによるTiB系硬質膜の製膜と評価
(阪府大院工) (学)○清川大地・ (阪府大工) 冨士和樹・ (阪府大院工) (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖

hard coating
plasma CVD
TiBCN

978

硫化水素添加が熱分解炭素CVDに及ぼす影響
(京大工) (学)○牧野優作・ (正)河瀬元明

CVD
Carbon
Hydrogen sulfide

1058

Tetracene thin film formation for organic photovoltaics by temperature-driven supercritical fluid deposition
(東大院工) (学)○黎彦劭・ (正)出浦桃子・ (東工大院理工) (正)下山裕介・ (東大院工) (正)霜垣幸浩・ (正)百瀬健

Temperature-driven Supercritical Fluid Deposition
Crystallization
Tetracene

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