Last Update: 2018-12-17 03:35:01

受理済み講演申し込み (ST-25) [English]


ST) 部会横断型シンポジウム

ST-25. [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス -デバイス構造・機能制御の反応工学-

オーガナイザー: 秋山 泰伸(東海大学)・筑根 敦弘(大陽日酸(株))・野田 優(早稲田大学)

CVD等のドライプロセスはエレクトロニクス,太陽電池,MEMS,機能性コーティング等の分野において重要な基幹技術となっている。本シンポジウムでは,CVDとその他のドライプロセスを利用した薄膜形成,微粒子合成,微細加工において反応工学的見地より反応メカニズムを理解し,論理的で効率的な反応プロセスや反応装置の開発を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します.

最終更新日時:2018-12-17 03:35:01

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44[招待講演] グラフェンをはじめとする二次元材料のCVD成長と生成機構
(九大GIC/産総研) 吾郷 浩樹
graphene
epitaxial growth
hexagonal boron nitride
O
113CsxWO3 ナノ粒子の火炎噴霧合成と光学特性
(広大院工) ○(学)平野 知之中倉 修平(学)Rinaldi Febrigia Ghana(正·修習)荻 崇
cesium tungsten bronze
flame-assisted spray pyrolysis
aerosol
O
1424H-SiC CVDトレンチ埋込成長機構及びHClガス添加効果の検討
(産総研) ○(正)望月 和浩紀 世陽足立 亘平小杉 亮治米澤 喜幸奥村 元
4H-SiC
trench filling
HCl
O
226アミノシラン系SiO2-ALDの反応速度解析
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) ○(正)川上 雅人加賀谷 宗仁光成 正佐藤 潤矢部 和雄
ALD
aminosilane
reaction kinetics
O
243[展望講演] 接触分解反応による活性種を利用した薄膜堆積と表面改質:HWCVD法の基礎と応用展開
(九工大工) 和泉 亮
HWCVD
Thin film
Surface modification
O
330[招待講演] プラズマエッチングにおけるSiO2/Si界面準位の生成と制御
(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング) ○長畑 和典重歳 卓志
Plasma
Etching
Damage
O
336浮遊触媒形成の温度場制御と単層カーボンナノチューブの気相合成
(早大先進理工) ○(学)並木 克也(早大高等研) (正)杉目 恒志(早大先進理工) (正)大沢 利男(正)野田 優
single-wall carbon nanotube
reaction field control
floating catalyst chemical vapor deposition
O
468[展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望
(京セラ) (法)谷渕 栄仁
CVD
Cutting tool
Hard coating
O
561熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2)
(東大院工) ○(学)山口 潤平原 智子(京セラ) (法)久保 隼人(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(京セラ) (法)谷渕 栄仁(東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
O
576Ag粒子とTiO2粒子の堆積で作製した複合薄膜の可視光照射下での光触媒活性
(広大院工) ○(学·技基)正木 佑弥姜 殿平(正)久保 優(正)島田 学(広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K.
PVD
PECVD
nanoparticle
O
685Supercritical dying and impregnation for fabrication of porous carbon electrode on Li-O2/CO2 battery
(東工大物質理工) ○(学)Kunanusont Nattanai(正)下山 裕介
Li- O2/CO2 battery
supercritical carbon dioxide
ionogel binder
O
832減圧熱CVD法で作製したリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の比誘電率
(東海大院工) ○(学)竹元 慧(正)秋山 泰伸
CVD
Lithium-doped Zinc Oxide
Ferroelectric
O
879ミストCVD法による高品質酸化亜鉛薄膜の作製および反応メカニズムの解明
(高知工大院) ○(学)西 美咲(高知工大) 長谷川 諒安岡 龍哉(高知工大院) 上田 真理子坂本 雅仁佐藤 翔太Phimolphan RuttongjaLiu Li(高知工大院/総研) Dang. T Gian川原村 敏幸
Mist CVD
ZnO
reaction mechanism
O
882アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発
(京大院工) ○(学·技基)中村 琢海(学)猪口 和明(学)長田 翔(京大工) (学)屋嘉比 亮(正)河瀬 元明
CVD
alkyl aluminum
alumina
O
905超臨界流体薄膜堆積による高アスペスト比構造への銅の均一製膜指針
(東大院工) ○(学)藤田 翔太郎(正)出浦 桃子(東工大院理工) (正)下山 裕介(東大院工) (正)霜垣 幸浩(正)百瀬 健
Supercritical fluid deposition
Diffusion coefficient
Kinetics
O
919SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討
(東大院工) ○(学)佐藤 登(正)中 智明(学)根藤 佳史(正)舩門 佑一(IHI) (正)福島 康之(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
Surface Reaction
O
937RFプラズマCVDによるTiB系硬質膜の製膜と評価
(阪府大院工) ○(学)清川 大地(阪府大工) 冨士 和樹(阪府大院工) (正)岡本 尚樹(正)齊藤 丈靖
hard coating
plasma CVD
TiBCN
O
978硫化水素添加が熱分解炭素CVDに及ぼす影響
(京大工) ○(学·技基)牧野 優作(正)河瀬 元明
CVD
Carbon
Hydrogen sulfide
O
1058Tetracene thin film formation for organic photovoltaics by temperature-driven supercritical fluid deposition
(東大院工) ○(学)黎 彦劭(正)出浦 桃子(東工大院理工) (正)下山 裕介(東大院工) (正)霜垣 幸浩(正)百瀬 健
Temperature-driven Supercritical Fluid Deposition
Crystallization
Tetracene
O

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化学工学会 第50回秋季大会