講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
---|---|---|---|---|---|
エレクトロニクス | |||||
(10:20〜11:20) (座長 冨田 大輔) | |||||
G205 | 硫酸・硫酸銅水溶液中における銅イオンの電極反応と拡散 | copper plating electrode reaction of copper diffusion of ion | 11-a | 227 | |
G206 | 半導体シリコンウエハ洗浄槽における気泡の動き | Wet-Cleaning Bubble Silicon wafer | 11-a | 252 | |
G207 | 光誘起重合相分離によるフレキシブル低誘電率膜形成過程における溶液粘度の影響 | low-k photopolymerization UV | 11-a | 218 | |
(11:20〜12:00) (座長 瀧 健太郎) | |||||
G208 | GaNの高温・高圧ハロゲン化アンモニウム溶液中への溶解度と結晶成長 | gallium nitride crystal growth solubility | 11-i | 484 | |
G209 | アモノサーマル法による窒化ガリウム単結晶育成 | crystal growth gallium nitride supercritical ammonia | 11-i | 418 |