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化学工学会 第84年会

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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2019-10-02 20:29:01

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番号		講演題目／発表者キーワード発表形式
970SiC-CVDにおける副生成物低減及び原料リサイクル技術の検討
(東大院工) (学)○大高 雄平・ (東大工) (学)小田 拓実・ (東大院工) (学)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩		CVD
CVI
SiC
P
982TiAlN-CVDプロセスの反応モデル構築に向けた速度過程解析
(東大院工) (学)○山口 潤・ 平原 智子・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (正)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩		CVD
TiAlN
cutting tool
P
1034Multiscale simulation on time-evolution of film thickness profile in microstructure during CVD
(U. Tokyo) (学)○Zhang Jin・ (正)Funato Yuichi・ (正)Deura Momoko・ (正)Momose Takeshi・ (正)Shimogaki Yukihiro		multiscale simulation
chemical vapor deposition
microstructure
P
1267Development of polymer nanocoating process for CNTs using in-flight PECVD
(広大院工) (学)○Hemanth Lakshmipura R.・ (学)Fukumoto Yoshihiko・ (正)Kubo Masaru・ (正)Shimada Manabu		PMMA
film
aerosol
O
1350大気圧プラズマCVD法によるプラスチック基板へのTiO2薄膜の作製と紫外線遮蔽膜への応用
(広大院工) (正)○長澤 寛規・ 許 静・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了		Atmospheric-pressure plasma
TiO2 thin film
UV-shielding
O
1399Fe/Gd/Al触媒を用いた数ミリメートル長単層カーボンナノチューブフォレストの合成
(早大高等研) (正)○杉目 恒志・ (早大先進理工) 仲川 黎・ (学)佐藤 俊裕・ (正)野田 優		carbon nanotube
chemical vapor deposition
catalyst
O
1432触媒金属の乾式除去によるカーボンナノチューブの低損傷精製法の開発
(早大先進理工) (学)○田中 秀明・ (学)大橋 慧・ (正)大沢 利男・ (早大高等研) (正)杉目 恒志・ (早大先進理工) (正)野田 優		carbon nanotube
purification
catalyst metal
P
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Most recent update: 2019-10-02 20:29:01
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