LF会場・第2日 - 講演プログラム（会場・日程別） - 化学工学会第52回秋季大会 (岡山)

`化学工学会第52回秋季大会 (岡山)`

Last modified: 2023-05-16 07:28:20

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講演プログラム（会場・日程別） : LF会場・第2日

ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用はプログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
[アクセス][フロアマップ]
講演要旨は講演番号からリンクしています(クリックかタップしてください)。
参加登録者(一般公開企画のみ参加者を除く)およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。

LF 会場(A36 ライブ併用) ・第 2 日(9月23日(木))

第2日はLF会場、第3日はLE会場です。表彰式は第3日14:20からLE会場で行います。

SY-81 | SY-63

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
SY-81 [材料・界面部会シンポジウム] 塗布技術と表面加工＜ライブ配信併用＞
(10:20～12:00) (座長吉原宏和・辰巳怜)
10:20～ 10:40	LF205	基材支持型スロット塗布方式の最小塗布膜厚と塗布限界先端形状 (金沢大) (正)津田武明	Slot coating Minimum wet thickness Critical lip shape	SY-81	57
10:40～ 11:00	LF206	カーテンコーティングにおける流下液膜の安定化に関する数値的研究 (埼玉大院理工) ○(学)千葉康太郎・ (学)冨樫昂太・ (正)本間俊司・ (サイデン化学) 梅宮弘和・小田純久・ (埼玉大院理工) 平原裕行	Curtain Coating VOF Air Shield	SY-81	329
11:00～ 11:20	LF207	撥水性パターニングにおける表面間力によるハジキ流動 (SCE・Net) (正·上技)宮本公明	Dewetting Paterning Printed-electronics	SY-81	58
11:20～ 11:40	LF208	ナノファイバーを用いた修復剤放出制御による自己修復性防食コーティング (広大院先進) ○(学)滝本優介・ (正)Ji Ha Lee・ (正)矢吹彰広	Self-healing Cellulose nanofiber Corrosion inhibitor	SY-81	542
11:40～ 12:00	LF209	ギ酸銅アミン錯体と硫黄を用いた硫化銅薄膜の低温合成 (広大院先進) ○(学)和田守聖・ (学)橘智之・ (正)ジハリー・ (正)矢吹彰広	Copper sulfide Multi-material One-step synthesis	SY-81	432
SY-63 [反応工学部会シンポジウム] マイクロ化学プロセス技術の利用とその応用（学生賞あり）＜ライブ配信併用＞
(12:55～13:00)
12:55～ 13:00		開会挨拶 (三菱ケミカル) (正)安川隼也・(岡山大院自) (正)渡邉貴一
(13:00～14:00) (座長松岡亮・村中陽介)
13:00～ 13:20	LF213	触媒固定化モノリス型マイクロフローリアクターにおける滞留時間分布評価 (九大院工) ○(学)野中聖也・ (正)長尾匡憲・ (正)星野友・ (正)三浦佳子	microflow catalyst reactor	SY-63	205
13:20～ 13:40	LF214	熱力学状態空間の反応経路最適化による固定床コンパクトリアクター設計 (京大院工) ○(学·修習)土井駿也・ (正)殿村修・ (正)外輪健一郎	Multi-level reactor design Pseudoheterogeneous model Dynamic optimization	SY-63	858
13:40～ 14:00	LF215	フロー反応装置を用いたエステルのアルカリ加水分解反応の速度解析と自動制御 (中央大院理工) ○(学)君島史峻・ (産総研) (正)竹林良浩・ (正)陶究・ (中央大院理工) (正)船造俊孝	flow reactor automatic control reaction rate analysis	SY-63	298
(14:00～14:40) (座長渡邉貴一・古里伸一)
14:00～ 14:20	LF216	マイクロ流路を用いた液コイルの作製 (東理大) ○(学)篠塚亮太・ (室園科研) (正)室園浩司・ (東理大) (正)村上裕哉・ (正)松川博亮・ (正)大竹勝人・ (正)庄野厚	Microfluidics Liquid rope-coil effect Particle method	SY-63	807
14:20～ 14:40	LF217	マイクロ流体デバイスを利用した鈴型マイクロカプセルの形成機構の解析 (岡山大院自) ○(学)坂井優子・ (正)渡邉貴一・ (正)小野努	Microcapsule Microfluidic device liquid-solid phase transition	SY-63	478
14:40～ 15:00		休憩
(15:00～16:00) (座長高木道哉・村上裕哉)
15:00～ 15:20	LF219	微小液滴を用いた精密濃度制御による微粒子の核生成・成長速度制御 (京大院工) ○(学)土田茜絵・ (正)牧泰輔・ (正)村中陽介・ (正)前一廣	Nanoparticle Particle nucleation/growth Inkjet system	SY-63	450
15:20～ 15:40	LF220	インクジェット吐出液滴の衝突混合によるナノ粒子の作製とモルフォロジー制御 (京大院工) ○(学)西室柚香子・ (学)竹田早希・ (正)牧泰輔・ (正)村中陽介・ (正)前一廣	Inkjet mixing system Nano particles Janus particle	SY-63	453
15:40～ 16:00	LF221	マイクロフローリアクターを用いた単色性量子ドット合成に関する研究 (阪大院工) ○(学)岡本彬仁・馬醫春希・ (アルバック) 平川正明・戸田晋太郎・田中満千代	Micro Flow Reactor Quantum Dot InP QD	SY-63	875

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化学工学会第52回秋季大会 (岡山)

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化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)

講演プログラム（会場・日程別） : LF会場・第2日

LF 会場(A36 ライブ併用) ・ 第 2 日(9月23日(木))

`化学工学会第52回秋季大会 (岡山)`

LF 会場(A36 ライブ併用) ・第 2 日(9月23日(木))