LF会場 - 講演プログラム（会場・日程別） - 化学工学会第52回秋季大会 (岡山)

`化学工学会第52回秋季大会 (岡山)`

Last modified: 2023-05-16 07:28:20

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講演プログラム（会場・日程別） : LF会場

ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用はプログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
[アクセス][フロアマップ]
講演要旨は講演番号からリンクしています(クリックかタップしてください)。
参加登録者(一般公開企画のみ参加者を除く)およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。

LF 会場(A36 ライブ併用)

LF 会場・第 1 日 | LF 会場・第 2 日 | LF 会場・第 3 日
SY-72 | SY-81 | SY-63 | SY-81

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
LF 会場(A36 ライブ併用) ・第 1 日(9月22日(水))
SY-72 [バイオ部会シンポジウム] 次世代バイオ分離プロセス：抗体医薬から遺伝子・細胞治療まで＜ライブ配信併用＞
(13:20～14:20) (座長吉本則子・水口和信)
13:20～ 13:40	LF114	低分子抗体精製用ProteinLリガンド固定化モノリススピンカラムの開発 (GL Sciences) ○(正)太田茂徳・由井夕湖・佐藤勉	Antibody Purification Monolith	SY-72	86
13:40～ 14:00	LF115	Amsphere A3によるFc融合タンパクの精製能およびその結合挙動メカニズム解析 (JSR) (法)Yao Ying・ ○(法)飯沼良介・ (法)Ryu JungWan・ (法)大田聡二朗	Fc-fusion Protein A resin Chromatography	SY-72	238
14:00～ 14:20	LF116	ミックスモード陽イオン交換クロマトグラフィーによる糖タンパク質の精製 (メルク) ○(正)伊藤隆夫・ (Merck KGaA) Holzgreve Annika・ Skudas Romas	Separation Ion exchange chromatography Glycoprotein	SY-72	505
14:20～ 14:40		休憩
(14:40～15:40) (座長田中孝明・太田茂徳)
14:40～ 15:00	LF118	クロマトグラフィーを用いた修飾タンパク質の連続生産分離プロセス (山口大) ○(正)吉本則子・ (正)山本修一	chromatography protein conjugation continuous	SY-72	775
15:00～ 15:20	LF119	カラムプロセスとウィルスフィルターを直結したIntegrated processの検討 (旭化成メディカル) 白瀧浩伸	Virus filter Chromatography Integrated process	SY-72	529
15:20～ 15:40	LF120	抗体連続精製プロセスの構築・最適化と実証 (MAB組合) 鴻池史憲・谷口雅俊・ (MAB組合/山口大) ○(正)山本修一	Continuous separation chromatography process performance	SY-72	545
LF 会場(A36 ライブ併用) ・第 2 日(9月23日(木))
SY-81 [材料・界面部会シンポジウム] 塗布技術と表面加工＜ライブ配信併用＞
(10:20～12:00) (座長吉原宏和・辰巳怜)
10:20～ 10:40	LF205	基材支持型スロット塗布方式の最小塗布膜厚と塗布限界先端形状 (金沢大) (正)津田武明	Slot coating Minimum wet thickness Critical lip shape	SY-81	57
10:40～ 11:00	LF206	カーテンコーティングにおける流下液膜の安定化に関する数値的研究 (埼玉大院理工) ○(学)千葉康太郎・ (学)冨樫昂太・ (正)本間俊司・ (サイデン化学) 梅宮弘和・小田純久・ (埼玉大院理工) 平原裕行	Curtain Coating VOF Air Shield	SY-81	329
11:00～ 11:20	LF207	撥水性パターニングにおける表面間力によるハジキ流動 (SCE・Net) (正·上技)宮本公明	Dewetting Paterning Printed-electronics	SY-81	58
11:20～ 11:40	LF208	ナノファイバーを用いた修復剤放出制御による自己修復性防食コーティング (広大院先進) ○(学)滝本優介・ (正)Ji Ha Lee・ (正)矢吹彰広	Self-healing Cellulose nanofiber Corrosion inhibitor	SY-81	542
11:40～ 12:00	LF209	ギ酸銅アミン錯体と硫黄を用いた硫化銅薄膜の低温合成 (広大院先進) ○(学)和田守聖・ (学)橘智之・ (正)ジハリー・ (正)矢吹彰広	Copper sulfide Multi-material One-step synthesis	SY-81	432
SY-63 [反応工学部会シンポジウム] マイクロ化学プロセス技術の利用とその応用（学生賞あり）＜ライブ配信併用＞
(12:55～13:00)
12:55～ 13:00		開会挨拶 (三菱ケミカル) (正)安川隼也・(岡山大院自) (正)渡邉貴一
(13:00～14:00) (座長松岡亮・村中陽介)
13:00～ 13:20	LF213	触媒固定化モノリス型マイクロフローリアクターにおける滞留時間分布評価 (九大院工) ○(学)野中聖也・ (正)長尾匡憲・ (正)星野友・ (正)三浦佳子	microflow catalyst reactor	SY-63	205
13:20～ 13:40	LF214	熱力学状態空間の反応経路最適化による固定床コンパクトリアクター設計 (京大院工) ○(学·修習)土井駿也・ (正)殿村修・ (正)外輪健一郎	Multi-level reactor design Pseudoheterogeneous model Dynamic optimization	SY-63	858
13:40～ 14:00	LF215	フロー反応装置を用いたエステルのアルカリ加水分解反応の速度解析と自動制御 (中央大院理工) ○(学)君島史峻・ (産総研) (正)竹林良浩・ (正)陶究・ (中央大院理工) (正)船造俊孝	flow reactor automatic control reaction rate analysis	SY-63	298
(14:00～14:40) (座長渡邉貴一・古里伸一)
14:00～ 14:20	LF216	マイクロ流路を用いた液コイルの作製 (東理大) ○(学)篠塚亮太・ (室園科研) (正)室園浩司・ (東理大) (正)村上裕哉・ (正)松川博亮・ (正)大竹勝人・ (正)庄野厚	Microfluidics Liquid rope-coil effect Particle method	SY-63	807
14:20～ 14:40	LF217	マイクロ流体デバイスを利用した鈴型マイクロカプセルの形成機構の解析 (岡山大院自) ○(学)坂井優子・ (正)渡邉貴一・ (正)小野努	Microcapsule Microfluidic device liquid-solid phase transition	SY-63	478
14:40～ 15:00		休憩
(15:00～16:00) (座長高木道哉・村上裕哉)
15:00～ 15:20	LF219	微小液滴を用いた精密濃度制御による微粒子の核生成・成長速度制御 (京大院工) ○(学)土田茜絵・ (正)牧泰輔・ (正)村中陽介・ (正)前一廣	Nanoparticle Particle nucleation/growth Inkjet system	SY-63	450
15:20～ 15:40	LF220	インクジェット吐出液滴の衝突混合によるナノ粒子の作製とモルフォロジー制御 (京大院工) ○(学)西室柚香子・ (学)竹田早希・ (正)牧泰輔・ (正)村中陽介・ (正)前一廣	Inkjet mixing system Nano particles Janus particle	SY-63	453
15:40～ 16:00	LF221	マイクロフローリアクターを用いた単色性量子ドット合成に関する研究 (阪大院工) ○(学)岡本彬仁・馬醫春希・ (アルバック) 平川正明・戸田晋太郎・田中満千代	Micro Flow Reactor Quantum Dot InP QD	SY-63	875
LF 会場(A36 ライブ併用) ・第 3 日(9月24日(金))
SY-81 [材料・界面部会シンポジウム] 塗布技術と表面加工＜ライブ配信併用＞
(9:00～10:20) (座長林卓弘・久保正樹)
9:00～ 9:40	LF301	[招待講演] データ駆動型粉体成膜プロセスインフォマティクス (東大工) 長藤圭介	Process Informatics Powder-film-formation process Parameter exploration	SY-81	118
9:40～ 10:00	LF303	紫外線硬化型3Dプリンタの造形シミュレーション (金沢大理工) ○(正)瀧健太郎・櫻木美音	3d printer UV resin photopolymerization	SY-81	658
10:00～ 10:20	LF304	微粒子凝集体の解砕シミュレーションによる粒子及び分散剤混合過程の解析 (PIA) ○(正)小池修・ (東大環安セ) (正)辰巳怜・ (PIA) (正)山口由岐夫	mixing process fracture of aggregate direct numerical simulation	SY-81	847
10:20～ 10:40		休憩
(10:40～12:00) (座長小林弘明・稲澤晋)
10:40～ 11:00	LF306	粒子系濃厚溶液の粘弾性特性の直接数値シミュレーション (東大環安セ) ○(正)辰巳怜・ (PIA) (正)小池修・ (正)山口由岐夫・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻佳子	Rheology Colloidal suspensions Fluid dynamics	SY-81	796
11:00～ 11:20	LF307	導電/絶縁粒子混合系乾燥膜におけるネットワーク構造の導電性および光透過性の評価 (東大環安セ) ○(正)辰巳怜・ (東大院工) (正)寺崎智紀・ (学)谷藤佳香・ (東大環安セ/東大院工) (正)辻佳子	Colloidal suspensions Drying Numerical simulation	SY-81	762
11:20～ 11:40	LF308	アセチレンブラック分散液の内部構造解析 (神戸大院工) ○(正)菰田悦之・鈴木航祐・吉田兼太郎・ (阪府大工) (正)堀江孝史・ (神戸大院工) (正)大村直人	rheology impedance secondary battery	SY-81	841
11:40～ 12:00	LF309	異なる分散質から得られる機能性多孔質膜の構造制御 (九大院工) ○(学)永尾幸子・ (九大工) (正)弘中秀至・ (正)井上元・ (正)深井潤	Wetting process Carbon black Specific surface area	SY-81	702
(13:00～14:40) (座長鳥越実・菰田悦之)
13:00～ 13:40	LF313	[招待講演] 固体高分子形燃料電池触媒層作成における塗布・乾燥工程の分子シミュレーション (東北大流体研) ○徳増崇・ (東北大際研) 馬渕拓哉・ (東北大流体研) 郭玉婷	polymer electrolyte fuel cell catalyst layer molecular simulation	SY-81	158
13:40～ 14:00	LF315	粒子分散液乾燥での自発的な密度差/循環流れの生成メカニズム (農工大院BASE) (学)井上介・ ○(正)稲澤晋	Drying Colloidal suspensions Buoyancy	SY-81	642
14:00～ 14:20	LF316	基板上を拡張する表面修飾ナノ粒子含有ナノフルイド液滴の数値シミュレーション (東北大院工) ○(学·技基)大塚俊輝・ (正)久保正樹・ (正)塚田隆夫・ (PIA) (正)小池修・ (東大環安研セ) (正)辰巳怜	surface modified nanoparticles nanofluid numerical simulation	SY-81	573
14:20～ 14:40	LF317	油水界面での固体粒子脱離・非脱離現象と油中水滴の蒸発速度 (農工大院BASE) ○(学·技基)安倍紘平・ (正)稲澤晋	particle-stabilized emulsion drying buckling	SY-81	361
14:40～ 15:00		休憩
(15:00～16:00) (座長蔵方慎一・津田武明)
15:00～ 15:20	LF319	UV硬化塗布膜内の溶媒拡散と相分離 (九工大院工) ○(正)山村方人・ (正)馬渡佳秀・ (正)齋藤泰洋	drying UV curing phase separation	SY-81	181
15:20～ 15:40	LF320	スラリー中のバインダーの分散性が多孔質膜の性質に及ぼす影響 (九大院工) ○(学)木村洸輔・ (九大工) (正)弘中秀至・ (正)井上元・ (正)深井潤	wetting process evaporation rate dispersivity	SY-81	601
15:40～ 16:00	LF321	液晶相を利用したクラックフリー粒子膜の作製 (九工大院工) ○(正)山村方人・ (正)馬渡佳秀・ (正)齋藤泰洋	Drying critical cracking thickness liquid crystal	SY-81	180

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