VK会場・第1日 - 講演プログラム（会場・日程別） - 化学工学会第52回秋季大会 (岡山)

`化学工学会第52回秋季大会 (岡山)`

Last modified: 2023-05-16 07:28:20

大会情報
プログラム
セッション別
- セッション一覧
- 式典・特別講演
  - 式典
  - 学会賞
- SV: ビジョンシンポ
  - SV-1
- SP: 特別シンポ
  - SP-1
  - SP-2
  - SP-3
- HQ: 本部企画
  - HQ-11
  - HQ-12
  - HQ-13
  - HQ-14
- ST: 部会横断
  - ST-21
  - ST-22
  - ST-23
  - ST-24
  - ST-25
  - ST-26
  - ST-27
  - ST-28
  - ST-29
- SY: 51-59
  - SY-51
  - SY-52
  - SY-53
  - SY-54
  - SY-55
  - SY-56
  - SY-57
  - SY-58
  - SY-59
- SY: 60-69
  - SY-60
  - SY-61
  - SY-62
  - SY-63
  - SY-64
  - SY-65
  - SY-66
  - SY-67
  - SY-68
  - SY-69
- SY: 70-79
  - SY-70
  - SY-71
  - SY-72
  - SY-73
  - SY-74
  - SY-75
  - SY-76
  - SY-77
  - SY-78
  - SY-79
- SY: 80-83
  - SY-80
  - SY-81
  - SY-82
  - SY-83
会場別
- 会場一覧
- LA-LG: ライブ併用
  - LA
  - LB
  - LC
  - LD
  - LE
  - LF
  - LG
- VA-VT: オンライン口頭
  - VA
  - VB
  - VC
  - VD
  - VE
  - VF
  - VG
  - VH
  - VI
  - VJ
  - VK
  - VL
  - VM
  - VR
  - VS
  - VT
- PA-PB: ポスター
  - PA
  - PB
検索・一覧

講演プログラム（会場・日程別） : VK会場・第1日

ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用はプログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
[アクセス][フロアマップ]
講演要旨は講演番号からリンクしています(クリックかタップしてください)。
参加登録者(一般公開企画のみ参加者を除く)およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。

VK 会場(オンライン) ・第 1 日(9月22日(水))

SY-60

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
SY-60 [分離プロセス部会シンポジウム] (4) 分離膜・膜分離プロセスの最新動向
(9:00～10:20) (座長田中俊輔・廣田雄一朗)
9:00～ 9:20	VK101	Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane (POSS) 骨格を有する分子ふるいカーボン膜の作製 (広大院先進理工) ○(学·技基)渡辺健太・ (正)金指正言・ (正)長澤寛規・ (正)都留稔了	membrane gas separation norbornene	SY-60	723
9:20～ 9:40	VK102	酸化グラフェン膜を用いたイオン選択的透過の研究 (熊大院自) ○(学)津川樹・ (熊大産業ナノマテリアル研) 畠山一翔・鯉沼陸央・伊田進太郎	nanosheet graphene oxide separation	SY-60	124
9:40～ 10:00	VK103	酸化グラフェン積層膜の有機溶剤ナノろ過性能に及ぼす支持膜構造の影響 (神戸大院工/先端膜工学セ) ○(学)牛尾海・ (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) (正)中川敬三・ (神戸大院工/先端膜工学セ) (正)Guan Kecheng・ (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) (正)吉岡朋久・ (正)新谷卓司・ (神戸大院工/先端膜工学セ) (正)松岡淳・ (正)神尾英治・ (正)松山秀人	Graphene oxide Organic nanofiltration Support membrane	SY-60	343
10:00～ 10:20	VK104	カーボンナイトライド/ニオブ酸ナノシート複合膜の光触媒特性と耐ファウリング性の評価 (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) ○(学)井元誠志・ (正)中川敬三・ (國立臺灣科技大) Hu Chechia・ (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) (正)新谷卓司・ (神戸大院工/先端膜工学セ) (正)松岡淳・ (正)神尾英治・ (正)松山秀人・ (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) (正)吉岡朋久	antifouling carbon nitride nanosheet niobate nanosheet	SY-60	491
(10:40～12:00) (座長金指正言・中川敬三)
10:40～ 11:00	VK106	[優秀論文賞] ZnO担持基材を用いたZIF-8膜の形成と気体透過特性の解析 (産総研) ○(正)原伸生・ (正)長谷川泰久・ (信州大RISM) (正)田中秀樹・ (産総研) (正)吉宗美紀・ (正)山木雄大・ (正)根岸秀之	ZIF-8 membrane propylene/propane separation direct growth	SY-60	214
11:00～ 11:20	VK107	CHA zeolite membranes for decomposition of organic hydrides (Shibaura Inst. Tech.) ○(学)Gama da Silva Figueiredo G.・ (芝浦工大) (学)高山大史・ (学)石井克典・ (正)野村幹弘	membrane separation zeolite membrane methylcyclohexane dehydration	SY-60	627
11:20～ 11:40	VK108	Al位置を制御したZSM-5型ゼオライト膜の透過分離特性 (早大ナノライフ) ○(正)酒井求・ (早大先進理工) (正)松方正彦	zeolite membrane separation preparation	SY-60	790
11:40～ 12:00	VK109	微量炭化水素によるSi-CHA膜のCO₂透過性低下のメカニズムの解明 (工学院大先進工) ○(学)廣澤史也・ (正)宮川雅矢・ (正)高羽洋充	Si-CHA membrane Non equilibrium molecular dynamics Trace gas	SY-60	801
(13:00～14:40) (座長荒木貞夫・酒井求)
13:00～ 13:20	VK113	低温対向拡散CVDによるシリカ膜の製膜と膜特性 (芝浦工大院理工) ○(学)石井克典・ (芝浦工大工) (正)野村幹弘	silica membrane chemical vapor deposition membrane separation	SY-60	303
13:20～ 13:40	VK114	大気圧プラズマジェットを用いた開放系での高分子シリカ複合膜の作製 (広大院先進理工) ○(学·技基)川崎貢功・ (正)長澤寛規・ (正)金指正言・ (正)都留稔了	membrane PECVD	SY-60	345
13:40～ 14:00	VK115	側鎖型オルガノシリカによる細孔径制御と透過特性評価 (広大院先進理工) ○(学·技基)長岡嵩大・ (正)金指正言・ (正)長澤寛規・ (正)都留稔了	organosilica	SY-60	582
14:00～ 14:20	VK116	アミン含有中空糸複合膜のCO₂分離性能の操作条件依存性 (九大I2CNER) ○(正)小田友範・衣笠佳恵・ (正)谷口育雄	amine CO2 capture hollow fiber membrane	SY-60	417
14:20～ 14:40	VK117	オルガノシリカ膜による有機水溶液の逆浸透および浸透気化:特性評価と溶解拡散モデルによる解析 (広大院先進理工) ○(学·技基)潮﨑俊一・ (正)長澤寛規・ (正)金指正言・ (正)都留稔了	Reverse osmosis organosilica	SY-60	632

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長) (同縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会第52回秋季大会 (岡山)

www3.scej.org

化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)

講演プログラム（会場・日程別） : VK会場・第1日

VK 会場(オンライン) ・ 第 1 日(9月22日(水))

`化学工学会第52回秋季大会 (岡山)`

VK 会場(オンライン) ・第 1 日(9月22日(水))