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化学工学会 第47回秋季大会

講演プログラム(会場・日程別)

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最終更新日時:2015-08-26 10:00:42

第 1 日
講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
部会セッション SE-10. <エレクトロニクス材料とプロセス>
(10:00〜12:00) (座長 所 和彦・金子 豊)
10:0010:20N104低線膨張銅めっき
(阪府大) (正)○Kondo Kazuo(正)Mukahara Shingo(正)Yokoi Masayuki
Copper
Electrodeposition
Thermal Expansion Coefficient
SE-1017
10:2010:40N105マイクロコンタクトプリント法によるパターンめっき用核剤インクの印刷
(産総研) (部)○所 和彦尾上 美紀白川 直樹牛島 洋史(日産化学) (法)小島 圭介(法)近間 克己
printed electronics
Electrodeposition
micro-contact printing
SE-10217
10:4011:00N106電解銅箔製造プロセスにおける電析シミュレーション
(古河インフォメーションテクノロジー) (部)○石丸 泰之・ (部)宮崎 敏(古河電工) (部)折田 伸昭
electrodeposition
simulation
electrolytic copper foil
SE-10736
11:0011:20N107TSV高速めっき充填技術
(阪府大) (部)○ホアン ヴァン ハ(正)近藤 和夫
high speed TSV filling
3D packaging
electrolyte optimization
SE-10402
11:2011:40N108モンテカルロシミュレーションを用いたシリコン貫通電極(TSV)埋め込みのモデリング
(京大情報) (学)○津郷 峻弘(正)金子 豊
Monte Carlo Simulation
Through-silicon via
Additives
SE-10340
11:4012:00N109Cl-とSPSの共存下における銅ダマシン(銅めっき)プロセスの反応速度論および一価銅濃度の数値解析
(阪府大) (部)○ホアン ヴァン ハ(正)近藤 和夫横井 昌幸
TSV filling
Cuprous
Copper plating kinetic
SE-10419
(13:00〜14:20) (座長 近藤 和夫)
13:0013:40N113[招待講演] 電子回路のためのビアとスルーホール埋め込み銅めっき
(國立中興大學) 竇 維平
Copper
Via
additive
SE-1031
13:4014:20N115[招待講演] CCS(Cognitive Computer System)時代を切り開らくデバイス技術の動向
(グローバルネット) (部)武野 泰彦
デバイス
CCS
半導体
SE-10107
(14:40〜16:00) (座長 武野 泰彦・折田 伸昭)
14:4015:20N118[招待講演] アルバックのTSVソリューション
(アルバック) 森川 泰宏
TSV
Etcher
Plasma
SE-1023
15:2016:00N120[招待講演] 電気銅めっきによるビアフィリングと添加剤効果:動的モンテカルロシミュレーションによるアプローチ
(京大) 金子 豊
Monte Calro
Copper electrodeposition
Additive
SE-1025

第 2 日
講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
部会シンポジウム SY-4. <プロセスシステム工学の最近の進歩>
(9:00〜10:20) (座長 浜口 孝司・馬場 一嘉)
9:009:20N201Just-in-time モデルおよびアンサンブル学習を活用した適応型ソフトセンサー手法
(東大院工) (正)○金子 弘昌(正)船津 公人
soft sensor
just-in-time
ensemble learning
SY-412
9:209:40N202無菌製剤製造における収率改善のためのプロセスモデル構築
(東大院工) (学)藪田 啓奨(正)平尾 雅彦(正)○杉山 弘和
Pharmaceutical manufacturing
Processing matrix
Fault Tree Analysis
SY-4807
9:4010:00N203持続可能なシステム設計におけるPSEの役割
(東大総括プロ) (正·修習)菊池 康紀
sustainability
system design
scenario analysis
SY-4812
10:0010:20N204制御系サイバーセキュリティ対策のシステマティックな立案と評価の方法
(名工大) (正)○橋本 芳宏(新生銀行) 高木 ひとみ(名工大) (正)越島 一郎
Cyber-Security
Safety
Process Control
SY-421
(10:40〜11:40) (座長 平尾 雅彦・水田 匡彦)
10:4011:00N206不可制御事象/不可観測状態をもつ化学プロセスの異常動作の検出と回避
(名大) (学)○今泉 ゆうか(学)橋爪 悟(正)橋爪 進(正)矢嶌 智之(正)小野木 克明
abnormal behavior
fault avoidance control
controllability and observability
SY-4889
11:0011:20N207処理時間が確率変動する生産システムのプロセス完了時刻の改善
(名大) (学)○今岡 侑太(正)橋爪 進(正)矢嶌 智之(正)小野木 克明
improvement of process completion time
critical path
stochastic processing time
SY-4890
11:2011:40N208多品種少量生産の工程間のエントロピーに基づくマッチング
(名大) (学)○守月 哲朗(正)橋爪 進(正)矢嶌 智之(正)小野木 克明
matching between processes
entropy
scheduling
SY-4891
(13:20〜14:40) (座長 橋本 芳宏・魚留 康弘)
13:2013:40N214[優秀論文賞] グレーボックスモデルとブートストラップフィルタによる不確定な製鋼プロセスの溶鋼温度予測
(NUST) ○アーマド イフティカ(京大情報) (正)加納 学(京大工) (正)長谷部 伸治(新日鐵住金) 北田 宏(早大理工) 村田 昇
Gray-box model
Bootstrap filter
Steel making process
SY-46
13:4014:00N215工業データを利用したCZ炉第一原理モデルの構築と検証
(京大工) (学)鄭 忠超(学·技基)○瀬戸 樹(正·修習)金 尚弘(京大情報) (正)加納 学(SUMCO) (正)藤原 俊幸(正)水田 匡彦(京大工) (正)長谷部 伸治
Czochralski process
First principle model
Industrial application
SY-489
14:0014:20N216近赤外スペクトルデータと統計的データ解析によるポリ乳酸の劣化現象の解明に向けた検討
(京大工) (学)○吉田 旺央(学·技基)室賀 俊(正·修習)金 尚弘(正)引間 悠太(正)大嶋 正裕(正)長谷部 伸治
Polylactic acid (PLA)
Statistical data analysis
Near-infrared spectrum (NIR)
SY-4502
14:2014:40N217様々な温度レベルの熱冷媒を有効活用できる蒸留プロセス構造の導出手法
(京大工) (学·技基)○高瀬 洋志(正)長谷部 伸治
Process Synthesis
Energy Saving
Linear Formulation
SY-4232
(15:00〜16:20) (座長 船津 公人・内藤 清嗣)
15:0015:20N219エチレングリコール、テトラエチレングリコールを用いたエタノール+水共沸系の抽出蒸留プロセスのシミュレーション
(応用物性研) (正)○大場 茂夫(日大生産工) (正)辻 智也(日大理工) (正)栃木 勝己
azeotrope
process simulator
extractive distillation
SY-4292
15:2015:40N220オンラインシミュレータを用いた蒸留操作の最適化
(横河電機) (正)○竹中 梓柏 良輔尾又 俊彰
online simulator
operational optimization
distillation
SY-461
15:4016:00N221組織レジリエンス評価のための手法に関する研究
(名工大) ○Davaadorj Nyambayar(正)越島 一郎(正)橋本 芳宏青山 友美
Resilience matrix
Organization Resilience
SY-4525
16:0016:20N222プラントワイド制御ループ構成ツールの開発
(名工大) (学)○高橋 勇哉(正)橋本 芳宏
Plant-Wide Control
control loop configuration
CAD
SY-4676

講演発表プログラム
化学工学会 第47回秋季大会

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