
| 杉山 正和(東京大学)・島田 学(広島大学)・川上 雅人(東京エレクトロン) |
CVDをはじめとするドライプロセスは,エレクトロニクス,太陽電池,MEMS,機能性コーティング等の分野において,基幹技術となっている。本シンポジウムでは,CVDと類縁技術を利用した薄膜形成,微粒子合成,微細加工における製品の構造と機能を制御するために,反応メカニズムの理解による論理的な最適化を目指し議論することを目的とします。なお,優秀な発表をされた若手研究者には,CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。
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