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化学工学会 第78年会 (大阪, 2013)

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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2013-02-12 18:58:58

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film growth2件
titanium carbide 2件
Solar Cell2件
Supercritical Fluid2件
chemiacal vapor deposition2件
dry etching1件

受理
番号		講演題目／発表者キーワード受理日時
62 超臨界流体を用いた太陽電池用CuInSe2の低温製 膜プロセス
(東北大多元研) ○(学)矢中 美紀・ 渡辺 伸司・ (正)笘居 高明・ (正)本間 格		Solar Cell
Supercritical Fluid
CuInSe2
12/3
16:46:01
146 SeO2を用いた超臨界流体セレン化プロセスによる 太陽電池化合物半導体薄膜の作製
(東北大多元研) ○(学)中安 祐太・ (学)矢中 美紀・ (正)笘居 高明・ (正)本間 格		Solar Cell
Supercritical Fluid
CuInSe2/Cu2ZnSnSe4
12/6
16:08:33
213 アルコールCVD法によるコバルト/シリカ静電紡糸不 織布への炭素堆積とシリカ除去
(阪大院基工) ○(学)澤田 光一・ (正)境 慎司・ (正)田谷 正仁		Electrospinning
Nanocasting
Carbon nanofiber
12/7
17:40:31
488 金属フリーグラフェンの誘電体上直接形成と構造制 御
(東大院工) ○(学)小坂 昌輝・ (早大先進理工) (正)野田 優		graphene
dry etching
crystal growth
12/10
14:48:33
596 酸化物導電体を下部電極に用いた強誘電体キャパシ タの特性評価
(阪府大院工) ○(学)髙田 瑶子・ 辻 徹・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ 吉村 武・ 藤村 紀文・ (阪大産研) 樋口 宏二・ 北島 彰・ 大島 明博		ferroelectric material
pulsed laser deposition
conductive oxide
12/10
17:26:48
600 異なるプラズマ源によるTi系硬質材料の低温CVDと 物性評価 -RFプラズマとパルスDCプラズマの比較-
(阪府大院工) ○(学)政岡 弘侑・ (学)根崎 基信・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ (アルテックス) 咸 智惇		chemiacal vapor deposition
film growth
titanium carbide
12/10
17:32:44
648 RFプラズマCVD法によるTiCBN薄膜の低温での製膜
(阪府大工) ○(学)根崎 基信・ (阪府大院工) (学)政岡 弘侑・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖・ (正)近藤 和夫・ (アルテックス) 咸 智惇		chemiacal vapor deposition
film growth
titanium carbide
12/10
18:23:12
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化学工学会 第78年会 (大阪, 2013)
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