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化学工学会 第90年会 (東京)

Last modified: 2025-03-13 03:41:28

講演プログラム(会場・日程別) : J会場

講演要旨は講演番号をクリックすると閲覧できます。
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J 会場(講義棟 4F 402)

J 会場 ・ 第 1 日 | J 会場 ・ 第 2 日 | J 会場 ・ 第 3 日
5 反応工学 | 11 エレクトロニクス | 5 反応工学

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
J 会場(講義棟 4F 402)第 1 日(3月12日(水))
5. 反応工学
(13:00~14:40) (座長 大島 一真森 武士)
13:0013:20J113Expansion of operating window of gas-liquid segmented flow in microchannels using a high-speed valve
Gas-liquid segmented flow
Microchannel
High-speed valve
5-f175
13:2013:40J114Ru系光触媒固定した高分子粒子開発およびフロー酸化反応への応用
J114の登壇者は 三浦 佳子 に交代予定です

(九大院工) ○(正·技基)松本 光(学)西村 和也(正)長尾 匡憲(正)三浦 佳子
Polymer-supported catalyst
Ru photocatalyst
continuous-flow reaction
5-f40
13:4014:00J115マイクロミキサー活用したポリマー微粒子合成
Micromixer
Polymer particle
Emulsion polymerization
5-f59
14:0014:20J116多孔性ゲル固定化した固定化触媒を用いた連続流通
(九大院工) ○(正)三浦 佳子重枝 春孝(正·技士)松本 光(正)長尾 匡憲
Residence time distribution
Continuous flow reaction
Immobilized catalyst
5-f392
14:2014:40J117Developing automated kinetic measurement instruments for amidation reaction
amide bond formation
kinetic measurement
solvent
5-e172
(15:00~16:00) (座長 三浦 佳子村上 裕哉)
15:0015:20J119液液スラグフロー有効界面積に与える液膜影響解析
(阪公大院工) (学·技基)吉村 太智(正)沖田 愛利香(正)安田 昌弘(正)堀江 孝史
Liquid-liquid slug flow
Microreactor
Mass transfer
5-f716
15:2015:40J120新規メカノケミカル法を用いた古紙からのセルロースオリゴ糖の分離
paper wastes
mechanochemistry
depolymerization
5-g252
15:4016:00J121電気アシストを用いた化学溶解法による炭素繊維強化プラスチックからの繊維回収
CFRP Recycling
Electrical treatment
Acid solution
5-i8
J 会場(講義棟 4F 402)第 2 日(3月13日(木))
(9:20~10:20) (座長 島内 寿徳藤墳 大裕)
9:209:40J202ZnOおよびg-C3N4光触媒による過酸化水素製造におけるアルコールフッイオン添加効果
Photocatalysis
H2O2
5-a54
9:4010:00J203逆水性ガスシフト反応加速するスパイラル形構造体触媒幾何形状効果
Spiral catalyst
Electroless plating
Reverse water-gas shift
5-a504
10:0010:20J204バイオガス直接メタン化する革新的触媒変換技術:CO2分離不要高濃度CH4製造
Biogas
Methanation
Structured catalyst
5-a498
(10:40~12:00) (座長 赤間 弘村上 能規)
10:4011:00J206有機光触媒による可視光照射下での二酸化炭素の水による還元反応
Reduction of carbon dioxide
Organic photocatalyst
Methanol synthesis
5-a447
11:0011:20J207C2H4合成目的としたCO2電解還元用触媒試作評価
(カネカ) ○(正)宇久 恭司(法)藤村 樹(正·技士)浅井 洋介
CO2
Ethylene
Electrolysis
5-a123
11:2011:40J208原料H2/N2比制御によるNH3合成量調整法
NH3 synthesis
Ru catalyst
hydrogen carrier
5-a89
11:4012:00J209電場印加水素膜分離を組み合わせたNH3分解反応
NH3 decomposition
Electric field
Membrane reactor
5-d398
(13:00~14:40) (座長 市橋 祐一高田 知哉)
13:0013:20J213オペランドX線イメージング利用したゼロギャップ型CO2電解セル内部液挙動解析
CO2 electrolysis
X-ray imaging
operando radiography
5-a305
13:2013:40J214還元鉄炭化反応における反応機構解明および反応量推算
Direct Reduced Iron
Carbonization
Boudouard Reaction
5-a184
13:4014:00J215メタノールからのパラキシレン合成におけるシリカライト被覆コアシェルMFI型ゼオライト触媒開発
CCUS
catalyst
p-xylene
5-a292
14:0014:20J216化学ループにおけるアルカリ金属およびアルカリ土類金属修飾によるイルメナイト反応性水素収率向上
Ilmenite modification
alkali and alkaline earth metals
redox kinetics
5-a346
14:2014:40J217ケミカルループメタン酸化におけるカルシウムフェライト酸素キャリア相変化反応活性
chemical looping
calcium ferrite
structural phase transformation
5-a664
(15:00~16:00) (座長 上宮 成之菊川 将嗣)
15:0015:20J219液液スラグ流によるフルフラール反応抽出における合流回数影響
mixing
liquid-liquid slug flow
reactive extraction
5-d662
15:2015:40J220H2とCO2原料とするカーボン製造技術開発
(IHI) ○(法)乙幡 拓希(正)中村 至高(法)渕瀨 啓太
CO2 utilization
carbon synthesis
hydrogen
5-a57
15:4016:00J221火炎噴霧熱分解法調製したNi@SiO2コアシェル触媒におけるNi含有量影響
Flame spray pyrolysis
Ni catalysts
Dry reforming of methane
5-a137
(16:00~17:00) (座長 藤原 翔大友 順一郎)
16:0016:20J222Ni-Mo2C/MgO触媒によるCH4/CO2からの水素リッチガスとCNTの合成
catalyst
dry reforming of methane
biogas
5-a575
16:2016:40J223窒素及リン導入したメタルフリー炭素系触媒を用いたCO2電解による合成ガス生成
CO2 electrolysis
syngas
metal-free electrocatalyst
5-a41
16:4017:00J224インライン分光を用いたZrO2触媒によるエステル直接アミド化のフロー反応解析
(産総研) ○(正)千田 勤(正)竹林 良浩(正)陶 究(正)片岡 祥
flow reactor
in-line monitoring
infrared and near-infrared spectroscopy
5-a183
J 会場(講義棟 4F 402)第 3 日(3月14日(金))
11. エレクトロニクス
(10:40~11:40) (座長 野田 優)
10:4011:00J306固体高分子形燃料電池移動現象無次元支配因子
polymer electrolyte fuel cell
mass transfer resistance
electrochemical reaction engineering
11-a458
11:0011:20J307亜鉛空気電池電極のためのカーボンナノチューブ/活性炭複合材料
Zn-air battery
carbon nanotube
activated carbon
11-a573
11:2011:40J308Cuペースト低温接合可能性探索 -第3報-
copper
sintering
complex
11-e294
5. 反応工学
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(13:00~14:20) (座長 島田 学玉置 直樹)
13:0013:20J313HF蒸気を用いた薄膜エッチングに関する実験および数値シミュレーション
CFD
Vapor Process
Etching
5-h306
13:2013:40J314アルミニウム層成長によるトリメチルアルミニウム水素気相反応に関する密度汎関数理論研究
Aluminum deposition
Density functional theory
MOCVD
5-h247
13:4014:00J315Nb薄膜低温プラズマ製膜プロセス検討
(東大院工) ○(学)田中 潤(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
niobium
plasma deposition
low-temperature
5-h313
14:0014:20J316An evaluation of high temperature processed Bi-based perovskite thin film for photovoltaic application
chemical vapor deposition
perovskite solar cells
chemical reaction engineering
5-h564
(14:40~16:20) (座長 河瀬 元明清水 秀治)
14:4015:00J318気相合成されたTiO2、TiO2+CuOナノ粒子薄膜の種々の反応場における光触媒性能
PECVD
nanoporous composite
aerosol deposition
5-h268
15:0015:20J319ニューラルネットワークポテンシャルを用いた吸脱着平衡定数表面反応速度定数推算
machine learned potential
surface kinetics
5-h461
15:2015:40J320ニューラルネットワークポテンシャルを用いたトリメチルアルミニウム吸着状況解析
(U. Tokyo) ○(学)Wu Yuxuan(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
ALD
CVD
Surface Adsorption
5-h263
15:4016:00J321Co-ALDにおける初期核発生成長過程評価
(東大院工) ○(正)玉置 直樹(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
atomic layer deposition
initial growth
in-situ observation
5-h551
16:0016:20J322Mo(CO)6を用いたMo原子層成長プロセス開発
(東大院工) ○(学)小原 聡顕(正)山口 潤(正)佐藤 登(正)筑根 敦弘(正)霜垣 幸浩
Mo(CO)6
low resistivity
good step coverage
5-h324
16:2016:40CVD反応分科会奨励賞授賞式
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