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化学工学会 第89年会 (堺)

Last modified: 2024-06-18 12:32:12

講演プログラム（会場・日程別） : G会場・第3日 : G320

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G 会場(B3棟 2F 207) ・ 第 3 日(3月20日(水))

5 反応工学 | 4 分離プロセス

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
5. 反応工学
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00～10:40) (座長 齊藤 丈靖)
9:00～ 9:20G301ALD用トリメチルアルミニウムの物理吸着の定量分析
(東大院工) ○(学)Wu Yuxuan・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depositon
Quartz Crystal Microbalance
Surface Adsorption
5-h383
9:20～ 9:40G302原子層堆積法を用いたZrN薄膜形成プロセスの検討
(東大院工) ○(学)田中 潤・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
ZrN
ALD
TEMAZ
5-h273
9:40～ 10:00G303次世代ULSI配線用Moの原子層成長プロセス開発
(東大院工) ○(学)小原 聡顕・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Molybdenum
ALD
low resistivity
5-h123
10:00～ 10:20G304ヒドラジンを用いた原子層堆積法によるシリコン窒化膜評価
(大陽日酸) ○(法)和田 吉史・ (法)村田 逸人・ (法)清水 秀治
Siicon Nitride
Atomic Layer Deposition
Incubation Cycle
5-h109
10:20～ 10:40G305Co薄膜熱原子層エッチングプロセスの検討
(東大院工) ○(正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
ALE
atomic layer eching
cobalt
5-h516
(10:40～12:00) (座長 杉目 恒志・清水 秀治)
10:40～ 11:00G306反射光強度その場観察を利用した下地選択Co-ALDプロセスの検討
(東大院工) ○(学)木村 俊介・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)百瀬 健・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
ALD
in-situ observation
reflectance
5-h232
11:00～ 11:20G307ポリマー上におけるCu連続膜形成プロセスの検討
(東大院工) ○(学)中嶋 佑介・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depoition
Copper
on Polymer
5-h531
11:20～ 11:40G308キセノンエキシマランプを使用したVUV-Redox法による銅表面の活性化
(阪公大院工) ○(正)遠藤 真一・ (正)齊藤 丈靖
VUV-Redo
Surface activation
5-h786
11:40～ 12:00G309CFDシミュレーションによるAlN化合物単結晶成長影響要因の検討
(京大院工) ○(学)李 亜飛・ 村橋 孝亮・ (正)河瀬 元明
MOCVD
CFD
III-V compound
5-h683
12:00～ 12:20CVD反応分科会奨励賞授賞式
4. 分離プロセス
(13:00～13:40) (座長 立元 雄治)
13:00～ 13:20G313竪型薄膜式多重効用缶による省エネ効果
(関西化学機械製作) ○(正)岸田 隆寛・ (正)野田 秀夫・ (正)山路 寛司・ (正·上技)西村 午良
Energy saving
Multiple-effect evaporator
Thin film evaporation
4-c213
13:20～ 13:40G314[注目講演] 旋回流を利用した鉄さび粒子捕捉デバイスの開発
(三菱電機) ○(正)山口 竜晴・ 栗原 幸大・ 今村 英二
Iron oxide
Swirl flow
Circulating water
4-b42
(13:40～14:40) (座長 橋本 一輝)
13:40～ 14:00G315加圧浮上法による除去土壌の改質処理
(早大ナノライフ) (正)松方 正彦・ (早大創造理工) (正)山﨑 淳司・ (早大ナノライフ) ○(正)正田 武則・ 相川 光明・ (松蔵技建) 松原 岩夫・ 渡邊 勝利
radioactive contaminated soil
pressurized flotation method
4-i160
14:00～ 14:20G316油中劣化物に対する粒状吸着剤の吸着特性評価
(日立研開) ○(正)飯島 敦史・ 斎藤 颯
Adsorption
Degraded oil
4-e713
14:20～ 14:40G317[注目講演] 新規三脚型アミド系抽出剤を用いたテクネチウム(VII)とレニウム(VII) の革新的溶媒抽出
(原子力機構) ○(正)下条 晃司郎・ 鈴木 英哉
technetium
rhenium
solvent extraction
4-f419
(15:00～16:00) (座長 下条 晃司郎)
15:00～ 15:20G319ベンゼンをエントレーナーとする共沸蒸留を用いたエタノール脱水プロセスのシミュレーション
(味村技術士事務所) ○(正)味村 健一・ (宇都宮大工) (正)佐藤 剛史
process simulation
azeotropic distillation
three phase distillation
4-c2
15:20～ 15:40G320充填塔におけるHETPの推算
(東理大) (正)大江 修造
Packed column
efficiency
HETP
4-c699
15:40～ 16:00G321充填式蒸留塔の HETP の局所的挙動の相関モデリング
(関西化学) ○(正)片岡 邦夫・ (正)西村 午良・ (正)野田 秀夫
Packed Distillation Column
HETP
Control Volume Model
4-c1
(16:00～16:40) (座長 稲澤 晋)
16:00～ 16:20G322近赤外分光分析を用いた高速撹拌乾燥挙動に及ぼす操作条件の影響調査
(静大院工) ○(正)立元 雄治・ (学)松岡 克俊・ 大塚 誠・ (アーステクニカ) (法)小柳 敬太
Drying
NIR
Agitation
4-h38
16:20～ 16:40G323石炭中水分形態が水分蒸発挙動に及ぼす影響
(電中研) ○(法)橋本 一輝・ (法)櫻木 潔・ (法)大高 円・ (正)山口 哲正
forms of water
water desorption
coal
4-h110

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化学工学会 第89年会 (堺)

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