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SCEJ

化学工学会 第89年会 (堺)

Last modified: 2024-06-18 12:32:12

講演プログラム（セッション別） : 5. 反応工学 : F214

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5. 反応工学

F 会場 ・ 第 1 日 | F 会場 ・ 第 2 日 | F 会場 ・ 第 3 日 | G 会場 ・ 第 3 日

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
F 会場(B3棟 2F 206) ・ 第 1 日(3月18日(月))
(13:00～14:20) (座長 笹山 知嶺)
13:00～ 13:20F113CH3SHを経由したC1系化合物からのアルカン合成プロセスの評価
(静大院工) ○(正)渡部 綾・ Smith Suchada・ (正)赤間 弘・ (九大院工) (正)大島 一真・ (正)岸田 昌浩・ (静大院工) (正)福原 長寿
Methanethiol
Alkane synthesis
Sulfur
5-a552
13:20～ 13:40F114温室効果ガス(GHG)を高速変換する構造体触媒システム:Swirl flowによる変換力の加速効果
(静大工) ○(正)赤間 弘・ (静大院工) (学)仲澤 佑真・ (正)渡部 綾・ (正)福原 長寿
Structured catalyst system
Methanation
Reverse water gas shift
5-a417
13:40～ 14:00F115[注目講演] 温室効果ガス(GHG)を高速変換する構造体触媒システム:グリーンプロセスへの展開
(静大院工) ○(正)福原 長寿・ (学)内木 寛人・ (静大工) (学)山田 祐生・ (正)赤間 弘・ (静大院工) (正)渡部 綾
Structured catalyst system
Dry reforming
Solid carbon capture
5-a418
14:00～ 14:20F116火炎噴霧熱分解法で調製したNi/CeO2触媒におけるCO2メタン化反応の活性サイト
(金沢大新学術) (正)藤原 翔
CO2 methanation
Ni catalyst
CeO2
5-a493
(14:20～14:40) (座長 藤原 翔)
14:20～ 14:40F117二元機能触媒によるCO2回収および転換に関する反応速度解析
(産総研) ○(正)小野 祐耶・ (正·技基)笹山 知嶺・ (正)高坂 文彦・ (正)森本 正人・ (正)松岡 浩一・ (正)倉本 浩司
dual-function materials
CO2 capture and utilization
reaction kinetics
5-a612
(15:00～15:40) (座長 藤原 翔)
15:00～ 15:20F1192次元ヘテロ構造ナノチャネルを有するHNb3O8/g-C3N4ナノシート複合光触媒膜の開発
(神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) ○(正)中川 敬三・ (神戸大院科技イノベ/) (学)井元 誠志・ (国台湾科技大) Hu Chechia・ (神戸大院科技イノベ/先端膜工学セ) (正)吉岡 朋久・ (神戸大院工/先端膜工学セ) (正)松岡 淳・ (正)神尾 英治・ (正)松山 秀人
nanosheet
photocatalytic membrane reactor
heterostructured nanochannel
5-a576
15:20～ 15:40F120遷移金属酸化物触媒上での水と酸素によるイソパラフィン気相選択酸化の反応機構と速度論
(東北大院工) ○(正)高橋 厚・ (学·技基)大野 誠尚・ (正)廣森 浩祐・ (正)北川 尚美
green oxidation
metal oxide catalyst
kinetic analysis
5-a464
(15:40～17:00) (座長 高橋 厚)
15:40～ 16:00F121Co系触媒を用いたプラズマDRMにおける助触媒の検討
(農工大院工) ○(正)神谷 憲児・ (農工大工) 井上 琴音・ (農工大院BASE) (正)銭 衛華・ (岐阜大院工) (正)小林 信介
Co based catalyst
Plasma catalyst
CO2 capture and utilization
5-a663
16:00～ 16:20F122液相光触媒プロセスにおける機械学習を利用したハイブリッド速度論モデルの開発
(長岡高専) ○(正)熱海 良輔・ (学·技基)中野 悠・ (学)岩井 真
Photocatalyst
Kinetics
Machine learning
5-a693
16:20～ 16:40F123Machine Learning-assisted analysis of NO adsorption and dissociation on PdRuIr ternary nanoparticle alloy
(Shinshu U.) ○(正)Aspera Susan Menez・ Valadez Huerta Gerardo・ Nanba Yusuke・ Hisama Kaoru・ (正)Koyama Michihisa
machine learning
nanoparticle alloy
catalysis
5-a285
16:40～ 17:00F124化学反応ニューラルネットワークによる反応機構探索の効率化とグリセリン酸化への適用
(信州大繊維) ○(正)嶋田 五百里・ (信州大院総理工) (学)塩谷 友希
chemical reaction neural network
kinetic model
glycerol oxidation
5-a325
F 会場(B3棟 2F 206) ・ 第 2 日(3月19日(火))
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00～10:00) (座長 霜垣 幸浩・清水 秀治)
9:00～ 9:20F201化学気相成長を用いたビスマス系ペロブスカイト薄膜の反応速度式の解析
(京大工) ○(海)楊 紫光・ (学)戸上 敬登・ (学)田邉 舞香・ (正)河瀬 元明
Chemical vapor deposition
Methylammonium bismuth iodide
Perovskite solar cell
5-h686
9:20～ 9:40F202還元性ガスを添加した反応性スパッタリングによるMAX合金薄膜の形成
(阪公大院工) ○(正)齊藤 丈靖・ (学·技基)上田 和貴・ (正)岡本 尚樹
sputtering
MAX-phase
5-h787
9:40～ 10:00F203不飽和度の異なる炭化水素種からの炭素CVD速度の解析
(京大工) (学)仲野 真治・ (正)藤墳 大裕・ ○(正)河瀬 元明
CVD
carbon
coking
5-h785
(10:00～11:00) (座長 河瀬 元明)
10:00～ 10:20F204画像解析を利用した機械学習モデルによるグラフェンドメイン拡大合成条件の探索
(福岡大工) (学)田原 勇弥・ ○(正)吉原 直記・ (正)野田 賢
Graphene
Chemical vapor deposition
Machine learning
5-i302
10:20～ 10:40F205流体混合制御による浮遊触媒CVD法でのカーボンナノチューブの安定連続合成
(早大先進理工) ○(正)Lang Jianghua・ (正)大沢 利男・ (正)野田 優
carbon nanotube
chemical vapor deposition
continuous process
5-h225
10:40～ 11:00F206SiC-CVIプロセスにおける反応モデルの簡略化
(東大院工) ○(正)佐藤 登・ (東大工) (学)吉田 幸希・ (東大院工) (学)大高 雄平・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
SiC-CVI
CH3SiCl3
Reduced model
5-h562
(11:00～12:00) (座長 野田 優・玉置 直樹)
11:00～ 11:20F207化学気相含浸法によるSiCセラミックス基複合材料作製におけるSiC埋め込みの炉内均一性向上および高速性向上に関する研究
(東大工) ○(学)吉田 幸希・ (東大院工) (学)大高 雄平・ (学)木村 俊介・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
CVD
5-h233
11:20～ 11:40F208高MTS分圧供給SiC-CVIにおける収率改善と副生成物抑制を目的とした排出ガス改質条件探索
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (東大工) (学)吉田 幸希・ (東大院工) (正)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
Recycling
5-h633
11:40～ 12:00F209SiCf/SiC-CMC製造における最適CVIプロセス設計指針
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (東大工) (学)吉田 幸希・ (東大院工) (正)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
Process design
5-h634
(13:20～14:20) (座長 村中 陽介)
13:20～ 13:40F214Influence of binder added zeolite catalyst on hydrotreating of vegetable oil
(TUAT) ○(海)Kumar Taufik・ Peng Ming Ming・ (正)Kamiya Kenji・ (正)Qian Eika W
binder
vegetable oil
zeolite
5-a628
13:40～ 14:00F215Saccharification of Cellulose by Using Mesoporous Carbons
(農工大院BASE) ○(海)佘 少樺・ 高田 俊平・ (農工大工) 渡辺 ひかる・ 須藤 雅也・ (農工大院BASE) (正)銭 衛華・ (農工大院工) (正)神谷 憲児
Mesoporous carbon
Saccharification
Cellulose
5-a671
14:00～ 14:20F216高温高圧条件下での水/有機二相系のスラグ流によるリグニンの反応抽出
(岡山大院環生) ○(正)島内 寿徳・ (学)小林 慎・ (慶應大理工) (正)藤岡 沙都子・ (正)寺坂 宏一・ (岡山大院環生) (正)木村 幸敬
vanilin
slug flow
hydrothermal reaction
5-d714
(14:20～14:40) (司会 上宮 成之)
14:20～ 14:40F217[研究奨励賞] 自動化フローリアクターを活用した触媒反応解析
(九大先導研) (正)浅野 周作
The SCEJ Award for Outstanding Young Researcher
0-c745
(15:00～16:00) (座長 浅野 周作)
15:00～ 15:20F219機械学習手法を用いた高分子固定化触媒の開発
(九大院工) ○(正)三浦 佳子・ 周 新程・ (正·技士)松本 光・ (正)長尾 匡憲
Polymer Immobilized Catalyst
Machine Learning
Pd
5-f717
15:20～ 15:40F220近赤外分光と過渡流量法を用いたクライゼン転位の速度解析
(産総研) ○(正)竹林 良浩・ (正)陶 究・ (正)片岡 祥
automated flow reactor
NIR
kinetic analysis
5-f136
15:40～ 16:00F221水素化反応を用いたテイラー流反応器の物質移動モデルの評価と誤差要因の解析
(三井化学) ○(法)福井 拓也・ (阪公大院工) (正)堀江 孝史・ (正)沖田 愛利香・ (正)安田 昌弘
Taylor flow
Gas-Liquid reaction
Mass transfer
5-f406
(16:00～17:00) (座長 三浦 佳子)
16:00～ 16:20F222反応分子動力学法による固体高分子形燃料電池用炭素担体のメソ細孔の酸素輸送特性解析
(東北大金研) ○(学)中村 哲也・ 森 海斗・ 福島 省吾・ (東北大NICHe) 蘇 怡心・ (東北大金研) 浅野 優太・ 大谷 優介・ (京大工) 尾澤 伸樹・ (東北大金研) (正)久保 百司
Polymer Electrolyte Fuel Cell
Catalyst Layer
Reactive Molecular Dynamics Method
5-a52
16:20～ 16:40F223無限個の一次並列反応の図的解法
(元京大院工) (正)三浦 孝一
Kinetic analysis
DAEM
Activation energy
5-i307
16:40～ 17:00F224Modeling of Autocatalytic Reaction by Cylindrical Particle with Finite Length
(Tech U. Korea) Cho Young-Sang
cylindrical particle with finite length
autocatalytic reaction
reaction-diffusion equation
5-i98
F 会場(B3棟 2F 206) ・ 第 3 日(3月20日(水))
(10:20～12:00) (座長 島内 寿徳・嶋田 五百里)
10:20～ 10:40F305振動ディスクミルと粘土反応剤を併用したキチンオリゴ糖の高効率製造
(道総研) ○(正)森 武士・ (正)小川 雄太・ (正)吉田 誠一郎・ (正)松嶋 景一郎
chitin biorefinery
mechanochemical reaction
clay
5-g164
10:40～ 11:00F306バイオマス燃料を用いた流動層ボイラにおけるアグロメレーションリスクの事前評価
(IHI検査計測) ○(正)田内 希・ 宮下 和大・ 茂田 潤一
agglomeration
fluidized-bed combustion
biomass fuels
5-g83
11:00～ 11:20F307バイオエタノールからの芳香族化合物合成触媒プロセスの開発
(産総研) ○(正)倉本 浩司・ (正)高坂 文彦・ (正·技基)笹山 知嶺・ (正)松岡 浩一・ 劉 彦勇
Bioethanol
aromatic compound
catalytic process
5-g499
11:20～ 11:40F308バイオマス前処理による熱分解温度低温化
(産総研) (正)細貝 聡
Biomass
Pyrolysis
Pretreatment
5-g544
11:40～ 12:00F309副生成物を利用した持続可能なギ酸/AlCl3/塩化コリン系水溶液中レブリン酸製造プロセスの開発
(農工大院BASE) ○(学)佐藤 龍・ (農工大院工) (学)平野 菜奈美・ (正)伏見 千尋
Levulinic acid
Choline chloride
Techno-economic analysis
5-g288
G 会場(B3棟 2F 207) ・ 第 3 日(3月20日(水))
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00～10:40) (座長 齊藤 丈靖)
9:00～ 9:20G301ALD用トリメチルアルミニウムの物理吸着の定量分析
(東大院工) ○(学)Wu Yuxuan・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depositon
Quartz Crystal Microbalance
Surface Adsorption
5-h383
9:20～ 9:40G302原子層堆積法を用いたZrN薄膜形成プロセスの検討
(東大院工) ○(学)田中 潤・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
ZrN
ALD
TEMAZ
5-h273
9:40～ 10:00G303次世代ULSI配線用Moの原子層成長プロセス開発
(東大院工) ○(学)小原 聡顕・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Molybdenum
ALD
low resistivity
5-h123
10:00～ 10:20G304ヒドラジンを用いた原子層堆積法によるシリコン窒化膜評価
(大陽日酸) ○(法)和田 吉史・ (法)村田 逸人・ (法)清水 秀治
Siicon Nitride
Atomic Layer Deposition
Incubation Cycle
5-h109
10:20～ 10:40G305Co薄膜熱原子層エッチングプロセスの検討
(東大院工) ○(正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
ALE
atomic layer eching
cobalt
5-h516
(10:40～12:00) (座長 杉目 恒志・清水 秀治)
10:40～ 11:00G306反射光強度その場観察を利用した下地選択Co-ALDプロセスの検討
(東大院工) ○(学)木村 俊介・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)百瀬 健・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
ALD
in-situ observation
reflectance
5-h232
11:00～ 11:20G307ポリマー上におけるCu連続膜形成プロセスの検討
(東大院工) ○(学)中嶋 佑介・ (正)山口 潤・ (正)佐藤 登・ (正)筑根 敦弘・ (正)霜垣 幸浩
Atomic Layer Depoition
Copper
on Polymer
5-h531
11:20～ 11:40G308キセノンエキシマランプを使用したVUV-Redox法による銅表面の活性化
(阪公大院工) ○(正)遠藤 真一・ (正)齊藤 丈靖
VUV-Redo
Surface activation
5-h786
11:40～ 12:00G309CFDシミュレーションによるAlN化合物単結晶成長影響要因の検討
(京大院工) ○(学)李 亜飛・ 村橋 孝亮・ (正)河瀬 元明
MOCVD
CFD
III-V compound
5-h683
12:00～ 12:20CVD反応分科会奨励賞授賞式

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