シンポジウム ST-24 | 化学工学会第53回秋季大会

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Last Update: 2022-05-28 13:48:46

ST-24. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD/ALD・ドライプロセス－構造・機能制御の反応工学－＜ライブ配信併用＞

オーガナイザー:

野田　優（早稲田大学）・下山裕介（東京工業大学）・川上雅人（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株)）・百瀬　渉（ALDジャパン(株)）

CVDやALDなどのドライプロセスはエレクトロニクス、エネルギーデバイス、機能性コーティングなど様々な分野で重要な基幹技術となっています。本シンポジウムでは、ドライプロセスを利用した薄膜形成、微粒子合成、微細加工の反応メカニズムを反応工学的見地より理解し、合理的で効率的な反応プロセスや反応装置を議論します。なお、優秀な発表をされた若手研究者には、CVD反応分科会奨励賞を贈呈します。

シンポジウム番号・講演分類番号一覧

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ST-24. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD/ALD・ドライプロセス －構造・機能制御の反応工学－ ＜ライブ配信併用＞

ST-24. [CR,SF,MI] [部会横断型シンポジウム] CVD/ALD・ドライプロセス－構造・機能制御の反応工学－＜ライブ配信併用＞