発表者または座長 が『齊藤 丈靖』と一致する講演:2件該当しました。
司会・座長氏名 が『齊藤 丈靖』と一致するセッション:2件該当しました。
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講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
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第 2 日 | F202 | 還元性ガスを添加した反応性スパッタリングによるMAX合金薄膜の形成 | sputtering MAX-phase | 5-h | 787 |
第 2 日 | 座長 | ||||
K222 | 全固体電池用電極スラリと電池性能の関係 | All solid-state batteries | 11-a | 396 | |
K223 | エタノール電解酸化反応における電解質のpHとアニオン吸着の検討 | Ethanol electro-oxidation Hydrogen generation Electrolyte | 11-a | 684 | |
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会) | |||||
第 3 日 | 座長 | ||||
G301 | ALD用トリメチルアルミニウムの物理吸着の定量分析 | Atomic Layer Depositon Quartz Crystal Microbalance Surface Adsorption | 5-h | 383 | |
G302 | 原子層堆積法を用いたZrN薄膜形成プロセスの検討 | ZrN ALD TEMAZ | 5-h | 273 | |
G303 | 次世代ULSI配線用Moの原子層成長プロセス開発 | Molybdenum ALD low resistivity | 5-h | 123 | |
G304 | ヒドラジンを用いた原子層堆積法によるシリコン窒化膜評価 | Siicon Nitride Atomic Layer Deposition Incubation Cycle | 5-h | 109 | |
G305 | Co薄膜熱原子層エッチングプロセスの検討 | ALE atomic layer eching cobalt | 5-h | 516 | |
第 3 日 | G308 | キセノンエキシマランプを使用したVUV-Redox法による銅表面の活性化 | VUV-Redo Surface activation | 5-h | 786 |
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