| 島田 学（広島大学）・羽深 等（横浜国立大学）・西田 哲（岐阜大学）・杉目 恒志（早稲田大学） |
CVD等のドライプロセスはエレクトロニクス，太陽電池，MEMS，機能性コーティング等の分野において重要な基幹技術となっている。本シンポジウムでは，CVDとその他のドライプロセスを利用した薄膜形成，微粒子合成，微細加工において反応工学的見地より反応メカニズムを理解し，論理的で効率的な反応プロセスや反応装置の開発を目指し議論することを目的とします。なお，優秀な発表をされた若手研究者には，CVD反応分科会奨励賞を贈呈します．
シンポジウム番号・講演分類番号一覧
化学工学会 第51回秋季大会 (2020)
easp 2.46; mknote 2.45 (C)1999-2020 kawase