
化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)
講演プログラム検索結果 : Shimogaki Yukihiro : 6件
ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用は
プログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
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発表者または座長 が『Shimogaki Yukihiro』と一致する講演:6件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの2件となります。
講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
第 1 日 13:40~ 14:00 | VC115 | 超臨界流体薄膜堆積法で作製した酸化チタンの光触媒活性と結晶性への添加物の効果
(東大院工) ○(学)安治 遼祐・ (正)出浦 桃子・ (東工大物質理工) (正)下山 裕介・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩・ (正)百瀬 健 | supercritical fluid deposition photocatalyst crystallinity
| ST-22 | 142 |
第 1 日 14:00~ 14:20 | VC116 | パルス供給ALDにおける原料気化特性の検討
(東大院工) ○(学)山口 潤・ (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (ダイキン工業) (法)松永 隆行・ (法)山内 昭佳・ (法)岸川 洋介・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩 | ALD precursor vaporization
| ST-22 | 594 |
第 1 日 16:00~ 16:20 | VC122 | SiCf/SiC CMC合成のための排出ガス改質再利用を含むSiC含浸プロセスの提案
(東大院工) ○(学)大高 雄平・ (正)佐藤 登・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩 | SiC reuse CVI
| ST-22 | 689 |
第 1 日 16:20~ 16:40 | VC123 | 多結晶SiC-CVDプロセス設計を目指した総括反応モデルの構築と検証
(東大院工) ○(学)師井 滉平・ (学)奥 友則・ (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩 | Chemical Vapor Deposition silicon carbide macrocavity method
| ST-22 | 792 |
第 2 日 10:40~ 11:00 | VN206 | Supercritical fluid deposition of Cu for sub-millimeter-scale features
(U. Tokyo) ○(学)Huang Yuyuan・ (正)Deura Momoko・ (Tokyo Tech) (正)Shimoyama Yusuke・ (U. Tokyo) (正)Shimogaki Yukihiro・ (正)Momose Takeshi | supercritical fluid deposition sub-millimeter-scale features
| SY-73 | 685 |
第 2 日 11:20~ 11:40 | VC208 | 理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築
(東大院工) ○(正)佐藤 登・ (学)山口 潤・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (法)杉山 貴悟・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩 | TiAlN CVD Elementary reaction model
| ST-22 | 785 |
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