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化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)

Last modified: 2023-05-16 07:28:20

講演プログラム（会場・日程別） : VC会場・第2日

ST-25,SY-56,SY-64,SY-65,SY-70は双方向ライブ配信利用予定からオンライン実施に変更されました(本変更を最後とします)。
双方向ライブ配信利用はプログラム一覧表で黄色・赤色背景のセッションです。
赤色のセッションは岡山のライブ配信会場にオーガナイザー不在の予定です。黄色は不在となる可能性があります。いずれの場合も会場は開設しますのでご来場いただいて発表・聴講いただけます。
[アクセス][フロアマップ]
講演要旨は講演番号からリンクしています(クリックかタップしてください)。
参加登録者(一般公開企画のみ参加者を除く)およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。

VC 会場(オンライン) ・ 第 2 日(9月23日(木))

ST-22

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
ST-22 [部会横断型シンポジウム]
CVD・ドライプロセス －構造・機能制御の反応工学－
(9:00～11:40) (座長 齊藤 丈靖・玉置 直樹)
9:00～ 9:40VC201[展望講演] 反応性プラズマを用いたナノ粒子の成長制御とその応用展開
(九大シス情) 古閑 一憲
CVD
nano-particles
growth control
ST-22514
9:40～ 10:00VC203One-step fabrication of CuO-loaded TiO2 nanoparticulate thin film for photocatalytic application under visible light irradiation
(Hiroshima U.) ○(学)Hudandini Meditha・ Jiang Dianping・ (ITS) Kusdianto K・ (Hiroshima U.) (正)Kubo Masaru・ (正)Shimada Manabu
PECVD-PVD
nanocomposite
heterojunction
ST-22154
10:00～ 10:20VC204Ti[N(CH3)2]4を用いたプラズマCVD法によるTiCN膜の作製
(阪府大院工) ○(学)竹内 陸・ (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖
plasma CVD
TDMAT
TiCN
ST-22863
10:20～ 10:50休憩
10:50～ 11:20VC206[招待講演] プラズマ照射下の空間ミクロかつ時間マクロな構造変化の再現計算への挑戦
(核融合研) 伊藤 篤史
CVD
plasma
numerical simulation
ST-22519
11:20～ 11:40VC208理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスにおける気相素反応機構構築
(東大院工) ○(正)佐藤 登・ (学)山口 潤・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (法)杉山 貴悟・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
TiAlN
CVD
Elementary reaction model
ST-22785

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化学工学会 第52回秋季大会 (岡山)

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