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化学工学会第88年会(東京)

講演プログラム検索結果 : Gotoh Takehiko : 4件

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ローマ字氏名 が『Gotoh Takehiko』と一致する講演：2件該当しました。
司会・座長氏名 が『Gotoh Takehiko』と一致するセッション：2件該当しました。
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講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:20～ 14:20		PA149高分子ゲル固定化細菌を用いた部分硝化プロセス
(広大院先進理工) ○(学·技基)船引 達哉・ (正)後藤 健彦・ (正)末永 俊和・ (正)中井 智司
nitrification
gel
partial nitrification
13-b561
第 2 日
9:00～ 10:20		   座長 後藤 健彦・広浜 誠也
D201下水汚泥焼却飛灰の高温付着性の評価と解析
(三機工業) ○(正)刀根 康一郎・ (正)伊東 賢洋・ 小関 多賀美・ (産総研) (正)堀口 元規・ (農工大院) (正)岡田 洋平・ (正)神谷 秀博
sewage sludge combustion fly ash
adhesion at high temperatures
particle size
13-a265
D202浸漬型MBRにおける次亜塩素酸ナトリウムとオゾン水を利用したろ過膜洗浄技術の評価
(三菱電機) ○(正)佐藤 祐樹・ 今村 英二
MBR
ozone
sodium hypochlorite
13-b21
D203気泡を用いる色素含有排水の低環境負荷処理
(北見工大工) ○(正)齋藤 徹・ (学)児玉 康輝・ (学)Ngo Thi Thu Thao
dyes
air-water interface
wastewater treatment
13-b160
D204水熱処理を用いた汚泥スラリー化とその性状性状評価
(岐阜大) ○(学)Zhengxiong Fang・ (正)小林 信介・ (正)須網 暁・ (正)板谷 義紀
Sludge treatment
Hydrothermal treatment
Apparent viscosity
13-f2
第 2 日
14:20～ 14:40		J217高分子ゲル内で合成した硫化銅微粒子の光触媒活性に及ぼす金属イオン追加の影響
(広大院先進理工) ○(正)後藤 健彦・ (学)近藤 右京・ (正)末永 俊和・ (正)中井 智司
hydrogfel
copper sulfide
photocatalyst
12-e622
第 2 日
16:00～ 17:00		   座長 迫野 奈緒美・後藤 健彦
J222オリゴペプチドと抗真菌薬の自己組織化を利用した菌種選択的な抗菌材料の実現
(神戸大院工) ○(正)森田 健太・ (神戸大院イノ) 西村 勇哉・ 石井 純・ (神戸大院工) (正)丸山 達生
peptide
self-assembly
antimicrobials
12-e5
J223多糖高分子を組み合わせた機能性ゲルの作製
(山形大院理工) 藤原 尚史・ ○(正)吉田 一也
Polysaccharide
Functional gel
Eco-friendly
12-e447
J224Silica/高分子イオン液体から構成されるイオンゲルの粘弾性評価
(岡山大院自) ○(正)渡邉 貴一・ 水谷 友南・ (学)家氏 真央・ (RWTH Aachen) Lopez Carlos G.・ (岡山大院自) (正)小野 努
Ion gel
Soft Matter
Time-temperature superposition
12-e259

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