English page
SCEJ

化学工学会第88年会(東京)

講演プログラム検索結果 : 照射 : 6件

講演要旨閲覧は講演番号をクリックしてください。
(有料参加登録者およびご招待者にメールでお知らせしたID/PWが必要です。)

講演題目 が『照射』を含む講演：6件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 2 日
10:20～ 11:20		PB274真空紫外線照射装置および中真空スパッタ装置を利用したカッパー層の密着性改善
(ウシオ電機) (学)遠藤 真一
adhesion strength
medium vacuum sputtering
vacuum ultraviolet
11-e18
第 2 日
11:00～ 11:20		E207マイクロ波照射屈折率からの単糖類、二糖類、三糖類の分散性
(兵庫県大院工) 是枝 壮太・ ○(正)朝熊 裕介・ (高知工大院工) 田上 周路・ (Curtin U.) Hyde Anita・ Phan Chi
microwave
refractive index
glucose
3-e196
第 2 日
11:20～ 11:40		E208無次元数を用いた種々のマイクロ波照射条件での温度分布の予測
(兵庫県大院工) 矢形 凌平・ ○(正)朝熊 裕介・ (Curtin U.) Hyde Anita・ Phan Chi
microwave
dimensionless number
local heating
3-a192
第 2 日
11:20～ 11:40		F208低温大気圧プラズマ照射を利用した常温下でのグリセリン選択酸化
(東北大院工) ○(学·技基)千田 勤・ (学·技基)中垣 友哉・ (正·技基)廣森 浩祐・ (正)北川 尚美・ 佐々木 渉太・ (正)高橋 厚
Cold atmospheric pressure plasma
Reactive oxygen species
Selective oxidation
5-c282
第 3 日
12:40～ 13:00		F312超音波照射によるOHラジカル生成効率へのウルトラファインバブル導入による影響
(長岡高専) 高橋 悠・ 土田 一喜・ (オーラテック) 江口 俊彦・ (長岡高専) ○(正)村上 能規
ultrasound
Ultrafine bubble
OH radical
5-b51
第 3 日
16:40～ 17:00		H324マイクロ波照射中の屈折率測定によるNaCl水溶液の溶媒和安定性
(兵庫県大院工) 高井 貴宏・ ○(正)朝熊 裕介・ (高知工大院工) 田上 周路・ (Curtin U.) Hyde Anita・ Phan Chi
microwave
solvation
refractive index
2-g201

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会第88年会(東京)

(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会第88年会実行委員会
E-mail: inquiry-88awww3.scej.org